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1. (WO2018042743) 基板検査装置、基板処理装置、基板検査方法および基板処理方法
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国際公開番号: WO/2018/042743 国際出願番号: PCT/JP2017/013870
国際公開日: 08.03.2018 国際出願日: 03.04.2017
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,G01N 21/956 (2006.01) ,H01L 21/66 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21
光学的手段,すなわち.赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
84
特殊な応用に特に適合したシステム
88
きず,欠陥,または汚れの存在の調査
95
調査対象物の材質や形に特徴付けられるもの
956
物体表面のパターンの検査
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
66
製造または処理中の試験または測定
出願人:
株式会社SCREENホールディングス SCREEN HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神北町1番地の1 Tenjinkita-machi 1-1, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585, JP
発明者:
柏山 真人 KASHIYAMA, Masahito; JP
ペチュレスキー チャー PIECZULEWSKI, Charles; JP
森田 彰彦 MORITA, Akihiko; JP
松尾 友宏 MATSUO, Tomohiro; JP
代理人:
福島 祥人 FUKUSHIMA, Yoshito; JP
優先権情報:
2016-17226702.09.2016JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE INSPECTION DEVICE, SUBSTRATE TREATMENT DEVICE, SUBSTRATE INSPECTION METHOD, AND SUBSTRATE TREATMENT METHOD
(FR) DISPOSITIF D'INSPECTION DE SUBSTRAT, DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ D'INSPECTION DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板検査装置、基板処理装置、基板検査方法および基板処理方法
要約:
(EN) A substrate W is held by a rotating holding unit (252) such that the substrate can rotate. First image data indicating an image of the substrate is generated by picking up, at the time of performing first image pickup, the image of the substrate by means of an image pickup unit (1), said substrate being held by the rotating holding unit. After performing the first image pickup, the substrate is rotated by a predetermined angle by means of the rotating holding unit. Second image data indicating an image of the substrate is generated by picking up, at the time of performing second image pickup after rotating the substrate, the image of the substrate by means of the image pickup unit, said substrate being held by the rotating holding unit. On the basis of the first and second image data, whether there is a defective in the surface state of the substrate is determined.
(FR) Un substrat W est maintenu par une unité de maintien rotative (252) de telle sorte que le substrat peut tourner. Des premières données d'image indiquant une image du substrat sont générées par capture, au moment de la réalisation d'une première capture d'image, de l'image du substrat au moyen d'une unité de capture d'image (1), ledit substrat étant maintenu par l'unité de maintien rotative. Après la réalisation de la première capture d'image, le substrat est tourné d'un angle prédéterminé au moyen de l'unité de maintien rotative. Des secondes données d'image indiquant une image du substrat sont générées par capture, au moment de la réalisation d'une seconde capture d'image après la rotation du substrat, de l'image du substrat au moyen de l'unité de capture d'image, ledit substrat étant maintenu par l'unité de maintien rotative. Sur la base des premières et secondes données d'image, il est déterminé s'il existe un défaut dans l'état de surface du substrat.
(JA) 回転保持部(252)により基板Wが回転可能に保持される。第1の撮像時に、前記回転保持部により保持された基板が撮像部(1)により撮像されることにより、基板の画像を示す第1の画像データが生成される。第1の撮像後に、前記回転保持部により予め定められた角度だけ基板が回転される。基板の回転後の第2の撮像時に、前記回転保持部により保持された基板が前記撮像部により撮像されることにより、基板の画像を示す第2の画像データが生成される。前記第1および前記第2の画像データに基づいて、基板の表面状態の欠陥の有無が判定される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)