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1. (WO2018037991) 離型フィルム
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/037991    国際出願番号:    PCT/JP2017/029527
国際公開日: 01.03.2018 国際出願日: 17.08.2017
IPC:
B32B 27/00 (2006.01), B32B 27/42 (2006.01)
出願人: TORAY ADVANCED FILM CO., LTD. [JP/JP]; 3-16, Nihonbashi Hongoku-cho 3-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030021 (JP)
発明者: TSUJIUCHI, Naoki; (JP).
NAKAGAKI, Takamitsu; (JP).
SUGIYAMA, Ryuichi; (JP)
代理人: ICHIJO, Chikara; (JP)
優先権情報:
2016-164437 25.08.2016 JP
発明の名称: (EN) MOLD-RELEASING FILM
(FR) FILM DE DÉMOULAGE
(JA) 離型フィルム
要約: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a non-silicone based mold-releasing film that has a relatively low haze value and capable of assuring excellent coating performance and surface smoothness of a transfer film to be stacked on a release layer of the mold-releasing film. In order to achieve said purpose, the present invention has a configuration as follows. The mold-releasing film having a release layer on one surface of a base material film is configured such that the release layer contains a non-silicone based compound as a main component, the surface roughness SRa (A) of the release layer is less than 10 nm, and the surface roughness SRa (B) of a surface opposite to the surface of the mold-releasing film having the release layer is less than 10 nm.
(FR)La présente invention a pour objectif de fournir un film de démoulage sans silicone qui a une valeur de trouble relativement faible et qui est en mesure d'assurer d'excellentes performances de revêtement et un excellent lissé de surface d'un film de transfert à empiler sur une couche démoulante du film de démoulage. Afin d'atteindre cet objectif, la présente invention présente une configuration comme suit. Le film de démoulage ayant une couche de libération sur une surface d'un film de matériau de base est configuré de telle sorte que la couche démoulante contient un composé sans silicone en tant que composant principal, la rugosité de surface SRa (A) de la couche démoulante est inférieure à 10 nm, et la rugosité de surface SRa (B) d'une surface opposée à la surface du film de démoulage ayant la couche démoulante est inférieure à 10 nm.
(JA)本発明は、離型フィルムの離型層上に積層される被転写膜の良好な塗工性や表面平滑性を確保することができ、かつヘイズ値が比較的低い、非シリコーン系離型フィルムを提供することを目的とする。 上記目的のため、本発明は以下の構成を有する。すなわち、基材フィルムの一方の面に離型層を有する離型フィルムであって、離型層が非シリコーン系化合物を主成分として含有し、かつ離型層の表面粗さSRa(A)が10nm未満であり、離型フィルムの離型層を有する面とは反対面の表面粗さSRa(B)が10nm未満である、離型フィルムである。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)