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1. (WO2018037812) 硬化性組成物及びその製造方法、硬化膜及びその製造方法、カラーフィルタ、固体撮像素子、固体撮像装置、並びに、赤外線センサ
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国際公開番号: WO/2018/037812 国際出願番号: PCT/JP2017/026746
国際公開日: 01.03.2018 国際出願日: 25.07.2017
IPC:
C08F 290/06 (2006.01) ,G02B 5/20 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01) ,H01L 27/146 (2006.01) ,H04N 5/225 (2006.01) ,H04N 5/369 (2011.01) ,H04N 9/07 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
290
脂肪族不飽和の末端基または側基の導入により変性された重合体に,単量体を重合させて得られる高分子化合物
02
不飽和末端基の導入により変性された重合体への
06
サブクラスC08Gに分類される重合体
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
20
フィルター
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
038
不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
14
赤外線,可視光,短波長の電磁波または粒子線輻射に感応する半導体構成部品で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御するかのどちらかに特に適用されるもの
144
輻射線によって制御される装置
146
固体撮像装置構造
H 電気
04
電気通信技術
N
画像通信,例.テレビジョン
5
テレビジョン方式の細部
222
スタジオ回路;スタジオ装置;スタジオ機器
225
テレビジョンカメラ
H 電気
04
電気通信技術
N
画像通信,例.テレビジョン
5
テレビジョン方式の細部
30
光または類似信号から電気信号への変換
335
固体撮像素子を用いるもの
369
固体撮像素子の構造,固体撮像素子と関連する回路に特徴のあるもの
H 電気
04
電気通信技術
N
画像通信,例.テレビジョン
9
カラーテレビジョン方式の細部
04
画像信号発生装置
07
1つの撮像装置のみを有するもの
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
小川 倫弘 OGAWA Michihiro; JP
深見 祐太朗 FUKAMI Yutaro; JP
伊藤 純一 ITO Junichi; JP
金子 祐士 KANEKO Yushi; JP
出井 宏明 IDEI Hiroaki; JP
浜田 大輔 HAMADA Daisuke; JP
石川 達郎 ISHIKAWA Tatsuo; JP
代理人:
中島 順子 NAKASHIMA Junko; JP
米倉 潤造 YONEKURA Junzo; JP
村上 泰規 MURAKAMI Yasunori; JP
優先権情報:
2016-16465625.08.2016JP
2017-00666518.01.2017JP
2017-13448610.07.2017JP
発明の名称: (EN) CURABLE COMPOSITION AND PRODUCTION PROCESS THEREFOR, CURED FILM AND PRODUCTION PROCESS THEREFOR, COLOR FILTER, SOLID-STATE IMAGING ELEMENT, SOLID-STATE IMAGING DEVICE, AND INFRARED SENSOR
(FR) COMPOSITION DURCISSABLE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION, FILM DURCI ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION, FILTRE COLORÉ, ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS, DISPOSITIF D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS ET CAPTEUR INFRAROUGE
(JA) 硬化性組成物及びその製造方法、硬化膜及びその製造方法、カラーフィルタ、固体撮像素子、固体撮像装置、並びに、赤外線センサ
要約:
(EN) The present invention addresses the problem of providing a curable composition capable of forming cured films having an excellent pattern shape. Another problem is to provide a process for producing the curable composition, a cured film and a production process therefor, a color filter, a solid-state imaging element, a solid-state imaging device, and an infrared sensor. The curable composition comprises a resin containing a curable group, a colorant, a polymerization inhibitor, and a polymerization initiator.
(FR) La présente invention aborde le problème consistant à fournir une composition durcissable permettant de former des films durcis présentant une excellente forme de motif. Un autre problème consiste à fournir un procédé de production de la composition durcissable, un film durci et son procédé de production, un filtre coloré, un élément d'imagerie à semi-conducteurs, un dispositif d'imagerie à semi-conducteurs et un capteur infrarouge. La composition durcissable comprend une résine contenant un groupe durcissable, un colorant, un inhibiteur de polymérisation et un initiateur de polymérisation.
(JA) 優れたパターン形状を有する硬化膜を作製することができる、硬化性組成物を提供することを課題とする。また、硬化性組成物の製造方法、硬化膜及びその製造方法、カラーフィルタ、固体撮像素子、固体撮像装置、並びに、赤外線センサを提供することも課題とする。硬化性組成物は、硬化性基を含有する樹脂と、着色剤と、重合禁止剤と、重合開始剤と、を含有する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)