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1. (WO2018037763) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、化合物、及び、樹脂

Pub. No.:    WO/2018/037763    International Application No.:    PCT/JP2017/025775
Publication Date: Fri Mar 02 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Sat Jul 15 01:59:59 CEST 2017
IPC: G03F 7/039
C08F 20/26
G03F 7/20
Applicants: FUJIFILM CORPORATION
富士フイルム株式会社
Inventors: TAKADA Akira
▲高▼田 暁
NISHIO Ryo
西尾 亮
GOTO Akiyoshi
後藤 研由
SHIRAKAWA Michihiro
白川 三千紘
TANGO Naohiro
丹呉 直紘
MARUMO Kazuhiro
丸茂 和博
SAKITA Kyohei
崎田 享平
Title: 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、化合物、及び、樹脂
Abstract:
露光のスキャン速度を超高速としても、液浸液の高い追従性を有し、スカムと現像欠陥を低減可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物等を提供する。感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、一般式(1)で表される繰り返し単位を有する樹脂(C)を含有する。パターン形成方法は、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物により膜を形成する工程を含み、電子デバイスの製造方法は、パターン形成方法を含む。 一般式(1)中、Zは、ハロゲン原子、R11OCH2-で表される基、又は、R12OC(=O)CH2-で表される基を表す。R11及びR12は1価の置換基を表す。Xは、酸素原子、又は、硫黄原子を表す。Lは、(n+1)価の連結基を表す。Rは、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する基を有する基を表す。nは正の整数を表す。