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1. (WO2018037691) 塗布方法、塗布装置及び記憶媒体

Pub. No.:    WO/2018/037691    International Application No.:    PCT/JP2017/022836
Publication Date: Fri Mar 02 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Thu Jun 22 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 21/027
B05C 11/08
B05D 1/40
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED
東京エレクトロン株式会社
Inventors: GOTO, Hirofumi
後藤 浩文
KUBOTA, Minoru
久保田 稔
KYOUDA, Hideharu
京田 秀治
Title: 塗布方法、塗布装置及び記憶媒体
Abstract:
【課題】ウエハに塗布液を塗布するにあたって、短時間でパーティクルの除去を行い塗布膜の不良をより確実に抑制すること。 【解決手段】塗布装置に搬入されたウエハWに塗布液102を供給する前に、まずシンナー100を供給し、ウエハWの表面を濡らし、次いでウエハWの表面を乾燥させている。これによりウエハWの表面のパーティクル101が流れやすくなる。またウエハWの表面が乾燥することで、続いてウエハWの表面をシンナー100を供給したときにシンナーの液溜まりの気液界面の断面が丸まり、パーティクル101を大きな力で押すことができるため、パーティクル101を短時間でより確実に除去することができる。従って、その後ウエハWに塗布液102を塗布したときにパーティクル101の付着に起因するSOC膜へのコメット斑の形成を抑制することができる。