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1. (WO2018037474) 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置の収差補正方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2018/037474 国際出願番号: PCT/JP2016/074481
国際公開日: 01.03.2018 国際出願日: 23.08.2016
IPC:
H01J 37/153 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02
細部
04
電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置
153
像欠陥を補正するための電子光学的またはイオン光学的装置,例.スチグマトール
出願人:
株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
発明者:
浦野 琴子 URANO Kotoko; JP
程 朝暉 CHENG Zhaohui; JP
大橋 健良 OHASHI Takeyoshi; JP
数見 秀之 KAZUMI Hideyuki; JP
代理人:
ポレール特許業務法人 POLAIRE I.P.C.; 東京都中央区日本橋茅場町二丁目13番11号 13-11, Nihonbashikayabacho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030025, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE AND ABERRATION CORRECTION METHOD FOR CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
(FR) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ET PROCÉDÉ DE CORRECTION D’ABERRATION POUR DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置の収差補正方法
要約:
(EN) In order to enable, in a charged particle beam device using a multipole-type aberration corrector, high-speed aberration corrector adjustment in an operation for adjusting the aberration corrector, this charged particle beam device is provided with: a charged particle source which generates a primary charged particle beam; an aberration correction optical system which corrects aberration of the primary charged particle beam generated by the charged particle source; a detection unit for detecting secondary charged particles generated from a sample irradiated with the primary charged particle beam the aberration of which has been corrected by the aberration correction optical system; an image formation unit which forms a charged particle image of the sample from a signal obtained by detecting the secondary charged particles by the detection unit; an aberration correction amount calculation unit which processes the charged particle image formed by the image formation unit, separates the aberration of the primary charged particle beam that has different symmetry, selects, from the separated aberration, aberration to be preferentially corrected, and calculates a correction amount for the aberration correction optical system for correcting the selected aberration; and an aberration correction optical system control unit which controls the aberration correction optical system on the basis of the correction amount calculated by the aberration correction amount calculation unit.
(FR) Afin de permettre, dans un dispositif à faisceau de particules chargées utilisant un correcteur d'aberration de type multipolaire, un réglage de correcteur d'aberration à grande vitesse dans une opération de réglage du correcteur d'aberration, ce dispositif à faisceau de particules chargées comporte : une source de particules chargées qui génère un faisceau de particules chargées primaires ; un système optique de correction d'aberration qui corrige l'aberration du faisceau de particules chargées primaires généré par la source de particules chargées ; une unité de détection permettant de détecter des particules chargées secondaires générées à partir d'un échantillon exposé au faisceau de particules chargées primaires dont l'aberration a été corrigée par le système optique de correction d'aberration ; une unité de formation d'image qui forme une image de particules chargées de l'échantillon à partir d'un signal obtenu par détection des particules chargées secondaires par l'unité de détection ; une unité de calcul de quantité de correction d'aberration qui traite l'image de particules chargées formée par l'unité de formation d'image, sépare l'aberration du faisceau de particules chargées primaires qui a une symétrie différente, sélectionne, à partir de l'aberration séparée, une aberration à corriger de manière préférentielle, et calcule une quantité de correction pour le système optique de correction d'aberration pour corriger l'aberration sélectionnée ; et une unité de commande de système optique de correction d'aberration qui commande le système optique de correction d'aberration sur la base de la quantité de correction calculée par l'unité de calcul de quantité de correction d'aberration.
(JA) 多極子型収差補正器を用いた荷電粒子線装置における収差補正器の調整動作において,収差補正器の調整を高速に実行できるようにするために、荷電粒子線装置を、一次荷電粒子ビームを発生させる荷電粒子源と、荷電粒子源から発生した一次荷電粒子ビームの収差を補正する収差補正光学系と、収差補正光学系で収差が補正された一次荷電粒子ビームが照射された試料から発生した二次荷電粒子を検出する検出部と、検出部で二次荷電粒子を検出して得た信号から試料の荷電粒子像を形成する画像形成部と、この画像形成部で形成した荷電粒子像を処理して一次荷電粒子ビームの対称性の異なる収差を分離し、分離した収差のうちから優先して補正すべき収差を選択し、選択した収差を補正するための収差補正光学系の補正量を算出する収差補正量算出部と、収差補正量算出部で算出した補正量に基づいて収差補正光学系を制御する収差補正光学系制御部とを備えて構成した。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)