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1. (WO2018034317) 炭酸水素水及びこれを使用する洗浄方法
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国際公開番号: WO/2018/034317 国際出願番号: PCT/JP2017/029515
国際公開日: 22.02.2018 国際出願日: 17.08.2017
IPC:
C02F 1/46 (2006.01) ,C02F 1/68 (2006.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
C 化学;冶金
02
水,廃水,下水または汚泥の処理
F
水,廃水,下水または汚泥の処理
1
水,廃水または下水の処理
46
電気化学的方法によるもの
C 化学;冶金
02
水,廃水,下水または汚泥の処理
F
水,廃水,下水または汚泥の処理
1
水,廃水または下水の処理
68
飲料水の改良のための特定物質,例.微量成分,の添加によるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
304
機械的処理,例.研摩,ポリシング,切断
出願人:
株式会社 ゴーダ水処理技研 GOHDA WATER TREATMENT TECHNOLOGY CO., INC. [JP/JP]; 東京都中央区新富一丁目6番1号 6-1, Shintomi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040041, JP
マグ テクノロジー カンパニー,リミテッド MAG TECHNOLOGY CO., LTD. [KR/KR]; ギョンギ-ド,スウォン-シ,グォンソン-グ,ゴセック-ドン,スウォン インダストリー ディストリビューション センター 986,#601-207 #601-207, Suwon Industry Distribution Center 986, Gosaek-Dong, Gownseon-Gu, Suwon-Si, Gyeonggi-Do, 441813, KR
発明者:
江田 敏久 GOHDA, Toshihisa; JP
李 在龍 LEE, Jae Yong; KR
代理人:
廣田 雅紀 HIROTA, Masanori; JP
優先権情報:
10-2016-010525319.08.2016KR
発明の名称: (EN) HYDROGENCARBONATE WATER AND CLEANING METHOD USING SAME
(FR) EAU HYDROGÉNOCARBONATÉE ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE L’UTILISANT
(JA) 炭酸水素水及びこれを使用する洗浄方法
要約:
(EN) The present invention pertains to hydrogencarbonate water and a cleaning method using same. Provided are: hydrogencarbonate water characterized by being obtained by dissolving carbon dioxide in hydrogen water having a dissolved hydrogen concentration of 0.1-2.0 ppm; and a cleaning method characterized by cleaning a substrate by either immersing the substrate in said hydrogencarbonate water or spraying the hydrogencarbonate water on the substrate.
(FR) La présente invention concerne de l’eau hydrogénocarbonatée et un procédé de nettoyage l’utilisant. La présente invention comprend : de l’eau hydrogénocarbonatée caractérisée en ce qu’elle est obtenue par dissolution de dioxyde de carbone dans de l’eau hydrogénée ayant une concentration en hydrogène dissous de 0,1 à 2,0 ppm ; et un procédé de nettoyage caractérisé par le nettoyage d’un substrat soit en immergeant le substrat dans ladite eau hydrogénocarbonatée soit en pulvérisant l’eau hydrogénocarbonatée sur le substrat.
(JA) 本発明は、炭酸水素水及びこれを使用する洗浄方法に関する。溶存水素濃度が0.1ppm~2.0ppmである水素水に二酸化炭素を溶解したことを特徴とする炭酸水素水。基板を前記炭酸水素水に浸漬する、又は基板に前記炭酸水素水を噴射することにより、基板を洗浄することを特徴とする洗浄方法。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)