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1. (WO2018034179) ガスバリアー性膜、その製造方法及びそれを具備した電子デバイス

Pub. No.:    WO/2018/034179    International Application No.:    PCT/JP2017/028535
Publication Date: Fri Feb 23 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Tue Aug 08 01:59:59 CEST 2017
IPC: C23C 14/08
B32B 9/00
C23C 14/02
C23C 14/34
H01L 21/316
Applicants: KONICA MINOLTA, INC.
コニカミノルタ株式会社
Inventors: MORI, Takahiro
森 孝博
Title: ガスバリアー性膜、その製造方法及びそれを具備した電子デバイス
Abstract:
本発明の課題は、ケイ素化合物を用いたときのガスバリアー性膜よりも、単位厚さ当たりのガスバリアー性を向上させたガスバリアー性膜、その製造方法及びそれを具備した電子デバイスを提供することである。 本発明のガスバリアー性膜は、ケイ素(Si)と長周期型周期表の第5族の元素Mとを含有するガスバリアー性膜であって、前記ガスバリアー性膜が、Si-M結合を有することを特徴とする。