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PATENTSCOPE

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国際公開番号: WO/2018/034020 国際出願番号: PCT/JP2017/012554
国際公開日: 22.02.2018 国際出願日: 28.03.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G21K 5/02 (2006.01) ,G21K 7/00 (2006.01) ,H05G 2/00 (2006.01) ,H05H 1/24 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G 物理学
21
核物理;核工学
K
他に分類されない粒子線または電離放射線の取扱い技術;照射装置;ガンマ線またはX線顕微鏡
5
照射装置
02
ビーム形成手段をもたないもの
G 物理学
21
核物理;核工学
K
他に分類されない粒子線または電離放射線の取扱い技術;照射装置;ガンマ線またはX線顕微鏡
7
ガンマ線またはX線顕微鏡
H 電気
05
他に分類されない電気技術
G
X線技術
2
X線の発生に特に適合した装置または処理で,X線管を含まないもの,例.プラズマの発生を含むもの
H 電気
05
他に分類されない電気技術
H
プラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1
プラズマの生成;プラズマの取扱い
24
プラズマの発生
出願人: TOHOKU UNIVERSITY[JP/JP]; 2-1-1, Katahira, Aoba-ku, Sendai-shi Miyagi 9808577, JP
発明者: EJIMA, Takeo; JP
KADO, Masataka; JP
SHINOHARA, Kunio; JP
KISHIMOTO, Maki; JP
代理人: KATAYAMA, Shuhei; JP
優先権情報:
2016-16086018.08.2016JP
発明の名称: (EN) SOFT X-RAY SOURCE, EXPOSURE APPARATUS, AND MICROSCOPE
(FR) SOURCE DE RAYONS X MOUS, APPAREIL D'EXPOSITION ET MICROSCOPE
(JA) 軟X線光源、露光装置および顕微鏡
要約:
(EN) This soft X-ray source is provided with: a laser device 36 which generates a plasma containing an element included in a target 32 by irradiating the target with a laser beam 60, and causes soft X-rays 62 to radiate from the plasma; and a chamber 30 which houses the target in the interior thereof and which, when the laser device irradiates the target with the laser beam, adjusts the gas pressure of a gas in the interior to a pressure not lower than 10 Pa but lower than the atmospheric pressure.
(FR) Selon l'invention, une source de rayons X mous est pourvue : d'un dispositif laser (36) qui produit un plasma comportant un élément compris dans une cible (32) par exposition de la cible à un faisceau laser (60), et qui amène les rayons X mous (62) à rayonner à partir du plasma; et d'une chambre (30) qui loge en son sein la cible et qui, lorsque le dispositif laser expose la cible au faisceau laser, règle la pression de gaz d'un gaz au sein de la chambre à une pression qui n'est pas inférieure à 10 Pa mais qui est inférieure à la pression atmosphérique.
(JA) ターゲット32にレーザ光60を照射することにより前記ターゲットに含まれる元素を含むプラズマを生成し、前記プラズマから軟X線62を放射させるレーザ装置36と、前記ターゲットを内部に収納し、前記レーザ装置が前記ターゲットに前記レーザ光を照射するときに、前記内部のガスのガス圧力を10Pa以上かつ大気圧未満とするチャンバ30と、を具備する軟X線光源。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)