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1. (WO2018030114) ガス分離膜、ガス分離膜モジュールおよびガス分離装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/030114    国際出願番号:    PCT/JP2017/026428
国際公開日: 15.02.2018 国際出願日: 21.07.2017
IPC:
B01D 69/10 (2006.01), B01D 53/22 (2006.01), B01D 69/00 (2006.01), B01D 69/12 (2006.01), B01D 71/32 (2006.01), B01D 71/40 (2006.01), B01D 71/64 (2006.01), B01D 71/70 (2006.01)
出願人: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
発明者: MUKAI Atsushi; (JP).
MOCHIZUKI Yusuke; (JP)
代理人: NAKASHIMA Junko; (JP).
YONEKURA Junzo; (JP).
MURAKAMI Yasunori; (JP)
優先権情報:
2016-155957 08.08.2016 JP
発明の名称: (EN) GAS SEPARATION MEMBRANE, GAS SEPARATION MEMBRANE MODULE AND GAS SEPARATION DEVICE
(FR) MEMBRANE DE SÉPARATION DE GAZ, MODULE DE MEMBRANES DE SÉPARATION DE GAZ ET DISPOSITIF DE SÉPARATION DE GAZ
(JA) ガス分離膜、ガス分離膜モジュールおよびガス分離装置
要約: front page image
(EN)Provided are: a gas separation membrane which has small variation in separation selectivity of propane and carbon dioxide; a gas separation membrane module; and a gas separation device. The gas separation membrane, the gas separation membrane module and the gas separation device sequentially comprise a supporting body, a resin layer, a separation layer and a protection layer in this order; the resin layer contains a compound having a siloxane bond; the protection layer and the separation layer are in direct contact with each other; the composition of the protection layer is different from the composition of the resin layer; the composition of the protection layer is different from the composition of the separation layer; and the separation layer has a maximum value of the silicon atom content of 2 atomic% or less in the composition of the protection layer-side half thereof in the thickness direction.
(FR)L'invention concerne : une membrane de séparation de gaz qui présente une faible variation de la sélectivité de séparation du propane et du dioxyde de carbone; un module de membrane de séparation de gaz; et un dispositif de séparation de gaz. La membrane de séparation de gaz, le module de membrane de séparation de gaz et le dispositif de séparation de gaz comprennent séquentiellement un corps de support, une couche de résine, une couche de séparation et une couche de protection dans cet ordre; la couche de résine contient un composé ayant une liaison siloxane; la couche de protection et la couche de séparation sont en contact direct l'une avec l'autre; la composition de la couche de protection est différente de la composition de la couche de résine; la composition de la couche de protection est différente de la composition de la couche de séparation; et la couche de séparation a une valeur maximale de la teneur en atomes de silicium de 2 % atomique ou moins dans la composition de la moitié côté couche de protection de celle-ci dans le sens de l'épaisseur.
(JA)プロパンと二酸化炭素の分離選択性のバラツキが小さいガス分離膜、ガス分離膜モジュール及びガス分離装置を提供する。ガス分離膜、ガス分離モジュール及びガス分離装置は、支持体、樹脂層、分離層および保護層をこの順で有し、樹脂層がシロキサン結合を有する化合物を含み、保護層が分離層と直接接し、保護層の組成が樹脂層の組成と異なり、保護層の組成が分離層の組成と異なり、分離層は、厚み方向で、保護層側の半分の領域の組成におけるケイ素原子の含有率の最大値が2atomic%以下である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)