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1. (WO2018029968) 電極の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/029968    国際出願番号:    PCT/JP2017/021384
国際公開日: 15.02.2018 国際出願日: 08.06.2017
IPC:
C25B 11/06 (2006.01), C25B 1/04 (2006.01), C25D 3/56 (2006.01)
出願人: HITACHI ZOSEN CORPORATION [JP/JP]; 7-89, Nanko-kita 1-chome, Suminoe-ku, Osaka-shi, Osaka 5598559 (JP)
発明者: YOSHIDA, Tetsuya; (JP).
SASAKI, Yusuke; (JP)
代理人: OKAMOTO, Hiroyuki; (JP)
優先権情報:
2016-158573 12.08.2016 JP
発明の名称: (EN) ELECTRODE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLECTRODE
(JA) 電極の製造方法
要約: front page image
(EN)This electrode manufacturing method includes: a step in which a soluble salt of nickel, a soluble salt of iron, and aminocarboxylic acid are dissolved in water to prepare a plating solution; and a step in which a substrate is immersed in the plating solution and a plating is formed on the substrate by electroplating. During the step in which the plating is formed, the temperature of the plating solution is greater than 30°C.
(FR)Ce procédé de fabrication d'électrode comprend : une étape dans laquelle un sel soluble de nickel, un sel soluble de fer et un acide aminocarboxylique sont dissous dans de l'eau pour préparer une solution de placage ; et une étape dans laquelle un substrat est immergé dans la solution de placage et un placage est formé sur le substrat par placage électrolytique. Lors de l'étape dans laquelle le placage est formé, la température de la solution de placage est supérieure à 30 °C.
(JA)電極の製造方法は、ニッケルの可溶性塩と、鉄の可溶性塩と、アミノカルボン酸とを水に溶解してめっき液を調製する工程と、めっき液に基材を浸漬し、電気めっきにより、基材上にめっきを形成する工程と、を含む。めっきを形成する工程において、めっき液の液温が30℃を超過する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)