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1. (WO2018029845) プラズマ発生装置、およびプラズマ照射方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/029845 国際出願番号: PCT/JP2016/073684
国際公開日: 15.02.2018 国際出願日: 11.08.2016
IPC:
H05H 1/24 (2006.01) ,H05H 1/26 (2006.01)
出願人: FUJI CORPORATION[JP/JP]; 19 Chausuyama, Yamamachi, Chiryu-shi, Aichi 4728686, JP
発明者: JINDO, Takahiro; JP
IKEDO, Toshiyuki; JP
代理人: NEXT INTERNATIONAL; 7th Floor, Daiei Building, 11-20, Nishiki 1-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600003, JP
FUKATSU, Yasutaka; JP
KATAOKA, Tomoki; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) PLASMA GENERATION DEVICE AND PLASMA IRRADIATION METHOD
(FR) DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE PLASMA ET PROCÉDÉ D'IRRADIATION DE PLASMA
(JA) プラズマ発生装置、およびプラズマ照射方法
要約: front page image
(EN) This atmospheric-pressure plasma generation device 10 has heat sinks 27, 28. Flow channels are formed in the heat sinks, and cooling gas is passed through the flow channels, whereby a lower housing 20, in which a reaction chamber is formed, is cooled. In this configuration, the gas used for cooling is warmed with the heat of the lower housing. The warmed gas is supplied to a heating gas supply device 14 and is heated by a heater 112. The heated gas is passed to a lower cover 22, and is sprayed together with the plasma gas from the lower cover 22 onto a processing object. It is thereby possible to cool the lower housing which has been heated by electric discharge, to heat the processing object, and to reduce the energy required for heating the gas.
(FR) Ce dispositif de génération de plasma à pression atmosphérique 10 a des dissipateurs thermiques 27, 28. Des canaux d'écoulement sont formés dans les dissipateurs thermiques, et un gaz de refroidissement passe par les canaux d'écoulement, moyennant quoi un boîtier inférieur 20, dans lequel est formée une chambre de réaction, est refroidi. Dans cette configuration, le gaz utilisé pour le refroidissement est réchauffé avec la chaleur du boîtier inférieur. Le gaz réchauffé est fourni à un dispositif d'alimentation en gaz de chauffage 14 et est chauffé par un dispositif de chauffage 112. Le gaz chauffé passe sur un couvercle inférieur 22, et est pulvérisé conjointement avec le gaz plasma provenant du couvercle inférieur 22 sur un objet de traitement. Il est ainsi possible de refroidir le boîtier inférieur qui a été chauffé par décharge électrique, de chauffer l'objet de traitement, et de réduire l'énergie nécessaire pour chauffer le gaz.
(JA) 本発明の大気圧プラズマ発生装置10は、ヒートシンク27,28を有している。ヒートシンクには、流路が形成されており、その流路に冷却ガスが流されることで、反応室の形成された下部ハウジング20が冷却される。この際、冷却に用いられたガスは、下部ハウジングの熱により加温される。その加温されたガスは、加熱ガス供給装置14に供給され、ヒーター112によって加熱される。そして、加熱されたガスが下部カバー22に流され、下部カバー22から、プラズマガスとともに、被処理体に向かって噴出される。これにより、放電により加熱された下部ハウジングの冷却、および被処理体の加熱を行うとともに、ガスの加熱に要するエネルギーを低減することが可能となる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)