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1. (WO2018025953) 剥離層形成用組成物及び剥離層
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/025953    国際出願番号:    PCT/JP2017/028204
国際公開日: 08.02.2018 国際出願日: 03.08.2017
IPC:
C09D 179/08 (2006.01), B32B 27/00 (2006.01), B32B 27/34 (2006.01), C08G 73/10 (2006.01), C08L 79/08 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01)
出願人: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
発明者: EBARA Kazuya; (JP).
SHINDO Kazuya; (JP)
代理人: PATENT PROFESSIONAL CORPORATION EI-MEI PATENT OFFICE; GINZA OHTSUKA Bldg. 2F, 16-12, Ginza 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040061 (JP)
優先権情報:
2016-152549 03.08.2016 JP
2016-152507 03.08.2016 JP
発明の名称: (EN) COMPOSITION FOR FORMING RELEASE LAYER, AND RELEASE LAYER
(FR) COMPOSITION DESTINÉE À LA FORMATION D'UNE COUCHE ANTIADHÉSIVE, ET COUCHE ANTIADHÉSIVE
(JA) 剥離層形成用組成物及び剥離層
要約: front page image
(EN)Provided is a composition for forming a release layer, the composition including polyamic acid represented by formula (1) and an organic solvent. (In the formula, X represents an aromatic group represented by formula (2a) or (2b), Y represents a divalent aromatic group having a fluorine atom, Z each independently represent an aromatic group represented by formula (3a) or (4a) when X is represented by formula (2a) or each independently represent an aromatic group represented by formula (3b) or (4b) when X is represented by formula (2b), and m represents a natural number.)
(FR)L'invention concerne une composition destinée à former une couche antiadhésive, la composition comprenant un poly(acide amique) représenté par la formule (1) et un solvant organique. (Dans la formule, X représente un groupe aromatique représenté par la formule (2a) ou (2b), Y représente un groupe aromatique divalent comportant un atome de fluor, chaque Z représente d'une manière indépendante un groupe aromatique représenté par la formule (3a) ou (4a) quand X est représenté par la formule (2a), ou chacun d'eux représente d'une manière indépendante un groupe aromatique représenté par la formule (3b) ou (4b) quand X est représenté par la formule (2b), et m représente un entier naturel).
(JA)下記式(1)で表されるポリアミック酸と有機溶媒とを含む剥離層形成用組成物を提供する。(式中、Xは、下記式(2a)又は(2b)で表される芳香族基を表し、Yは、フッ素原子を有する2価の芳香族基を表し、Zは、Xが式(2a)である場合、互いに独立して、下記式(3a)又は(4a)で表される芳香族基を表し、Xが式(2b)である場合、互いに独立して、下記式(3b)又は(4b)で表される芳香族基を表し、mは、自然数を表す。)
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)