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1. (WO2018025756) インプリント装置、及び物品製造方法
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国際公開番号: WO/2018/025756 国際出願番号: PCT/JP2017/027354
国際公開日: 08.02.2018 国際出願日: 28.07.2017
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,B29C 59/02 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
C
プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修
59
表面成形,例.エンボス;そのための装置
02
機械的手段,例.プレス,によるもの
出願人:
キヤノン株式会社 CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501, JP
発明者:
山本 磨人 YAMAMOTO Kiyohito; JP
代理人:
阿部 琢磨 ABE Takuma; JP
黒岩 創吾 KUROIWA Sogo; JP
優先権情報:
2016-15402004.08.2016JP
発明の名称: (EN) IMPRINT DEVICE AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF D'IMPRESSION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ARTICLE
(JA) インプリント装置、及び物品製造方法
要約:
(EN) This imprint device has: a processing part that forms an imprint material pattern on a substrate by using a mold; a chamber that houses the processing part and that has a first gate to which a first storage part that stores a substrate yet to be processed by the processing part is connected and a second gate to which a second storage part that stores the substrate processed by the processing part is connected; and a control part that prohibits the first gate from being opened until a prescribed time elapses after the substrate, on which the pattern has been formed by the processing part, has been stored in the second storage part and the second gate has been closed.
(FR) Ce dispositif d'impression comporte : une partie de traitement qui forme un motif de matériau d'impression sur un substrat à l'aide d'un moule; une chambre qui contient la partie de traitement et qui a une première grille sur laquelle une première partie de stockage qui stocke un substrat devant être traité par la partie de traitement est connectée et une seconde grille à laquelle une seconde partie de stockage qui stocke le substrat traité par la partie de traitement est connectée; et une partie de commande qui empêche l'ouverture de la première grille jusqu'à ce qu'un temps prescrit s'écoule après le substrat, sur lequel le motif a été formé par la partie de traitement, a été stockée dans la seconde partie de stockage et la seconde grille a été fermée.
(JA) インプリント装置は、型を用いて、基板上にインプリント材のパターンを形成する処理部と、この処理部を収容し、処理部にて処理される前の基板を格納する第1格納部が接続される第1ゲートと、処理部にて処理済みの基板を格納する第2格納部が接続される第2ゲートとを有するチャンバと、第2格納部に処理部によりパターンが形成された基板が格納され、第2ゲートが閉鎖されてから所定時間が経過するまで第1ゲートの開放を禁止する制御部とを有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)