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1. (WO2018025727) 無アルカリガラス基板、積層基板、およびガラス基板の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

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国際公開番号:    WO/2018/025727    国際出願番号:    PCT/JP2017/027112
国際公開日: 08.02.2018 国際出願日: 26.07.2017
IPC:
C03C 3/085 (2006.01), C03B 17/06 (2006.01), C03B 25/02 (2006.01), C03C 3/087 (2006.01), C03C 3/093 (2006.01)
出願人: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP)
発明者: NOMURA Shuhei; (JP).
ONO Kazutaka; (JP)
代理人: EIKOH PATENT FIRM, P.C.; Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
優先権情報:
2016-154683 05.08.2016 JP
発明の名称: (EN) ALKALI-FREE GLASS SUBSTRATE, LAMINATED SUBSTRATE, AND GLASS SUBSTRATE PRODUCTION METHOD
(FR) SUBSTRAT DE VERRE SANS ALCALI, SUBSTRAT STRATIFIÉ ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT DE VERRE
(JA) 無アルカリガラス基板、積層基板、およびガラス基板の製造方法
要約: front page image
(EN)Provided are a glass substrate and a glass substrate production method, wherein, in a heat treatment step for bonding together a silicon substrate and a glass substrate, the glass substrate causes less residual stress generated in the silicon substrate. The present invention relates to an alkali-free glass substrate which contains 0.1-10% ZnO in mole percentage in terms of oxides, wherein the average thermal expansion coefficient at 50-100°C, the average thermal expansion coefficient at 200-300°C, and a value obtained by dividing the average thermal expansion coefficient at 200-300°C by the average thermal expansion coefficient at 50-100°C, all fall within specific ranges.
(FR)L'invention porte sur un substrat de verre et sur un procédé de fabrication de substrat de verre, dans lesquels, pendant une étape de traitement thermique permettant de lier ensemble un substrat de silicium et un substrat de verre, le substrat de verre provoque moins de contrainte résiduelle générée dans le substrat de silicium. La présente invention concerne un substrat de verre sans alcali qui comprend de 0,1 à 10 % de ZnO en pourcentage molaire en termes d'oxydes, le coefficient de dilatation thermique moyen à 50-100 °C, le coefficient de dilatation thermique moyen à 200-300 °C, et une valeur obtenue par la division du coefficient de dilatation thermique moyen à 200-300 °C par le coefficient de dilatation thermique moyen à 50-100 °C, entrant tous dans des plages spécifiques.
(JA)本発明は、シリコン基板とガラス基板を貼り合わせる熱処理工程において、シリコン基板に発生する残留歪が小さいガラス基板およびガラス基板の製造方法を提供する。本発明は、酸化物基準のモル百分率表示で、ZnOを0.1%~10%含有し、50℃~100℃での平均熱膨張係数、200℃~300℃での平均熱膨張係数、200℃~300℃の平均熱膨張係数を50℃~100℃の平均熱膨張係数で除した値が特定範囲である無アルカリガラス基板に関する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)