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1. (WO2018025580) 半導体集積回路装置

Pub. No.:    WO/2018/025580    International Application No.:    PCT/JP2017/024918
Publication Date: Fri Feb 09 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Sat Jul 08 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 21/82
H01L 21/822
H01L 21/8234
H01L 21/8238
H01L 27/04
H01L 27/06
H01L 27/092
H01L 29/06
Applicants: SOCIONEXT INC.
株式会社ソシオネクスト
Inventors: SHIMBO Hiroyuki
新保 宏幸
Title: 半導体集積回路装置
Abstract:
ナノワイヤFETを用いた半導体集積回路装置について、製造の容易化に有効なレイアウト構成を提供する。論理機能を有するスタンダードセル(C1)に隣接して、論理機能を有しないスタンダードセル(C2)が配置されている。スタンダードセル(C1)は、ナノワイヤ(11,12,13,14)およびパッド(21,22,23,24,25,26)を有するナノワイヤFET(P11,P12,N11,N12)を備えており、スタンダードセル(C2)は、回路の論理機能に寄与しないパッドであるダミーパッド(51,52,53,54)を備えている。