WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2018025515) 計測装置、露光装置、および物品の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/025515    国際出願番号:    PCT/JP2017/022039
国際公開日: 08.02.2018 国際出願日: 15.06.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G01B 11/02 (2006.01), G01B 11/06 (2006.01), G01B 11/30 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
出願人: CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501 (JP)
発明者: MAEDA, Kohei; (JP).
TAKAHASHI, Akihiro; (JP).
FURUSAWA, Manato; (JP).
HOMMA, Hideaki; (JP)
代理人: OHTSUKA, Yasunori; (JP).
OHTSUKA, Yasuhiro; (JP).
TAKAYANAGI, Jiro; (JP).
KIMURA, Shuji; (JP)
優先権情報:
2016-154946 05.08.2016 JP
発明の名称: (EN) MEASURING DEVICE, EXPOSURE DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING ARTICLE
(FR) DISPOSITIF DE MESURE, DISPOSITIF D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ARTICLE
(JA) 計測装置、露光装置、および物品の製造方法
要約: front page image
(EN)Provided is a measuring device that measures the surface height distribution of a substrate having a surface whereon the height variation along one direction is greater than the height variation along the other direction in mutually different first and second directions on the surface, wherein the measuring device includes: a detection unit for detecting the height of a point to be detected in a detection area; and a processing unit for acquiring the surface height distribution of the substrate in a scanning direction by performing relative scanning between the substrate and the detection area. The processing unit acquires the surface height distribution of the substrate along the first direction as a first distribution by performing relative scanning between the substrate and the detection area in the first direction, determines whether or not the height variation in the first distribution is a reference value or greater, and acquires the surface height distribution of the substrate along the second direction by performing relative scanning between the substrate and the detection area in the second direction when determining that the height variation in the first distribution is less than the reference value.
(FR)L'invention concerne un dispositif de mesure qui mesure la distribution de la hauteur de surface d'un substrat possédant une surface sur laquelle la variation de hauteur le long d'une direction est supérieure à la variation de hauteur le long de l'autre direction dans des première et seconde directions mutuellement différentes sur la surface, le dispositif de mesure comprenant : une unité de détection permettant de détecter la hauteur d'un point à détecter dans une zone de détection ; et une unité de traitement permettant d'acquérir la distribution de la hauteur de surface du substrat dans une direction de balayage par la réalisation d'un balayage relatif entre le substrat et la zone de détection. L'unité de traitement acquiert la distribution de la hauteur de surface du substrat le long de la première direction en tant que première distribution par la réalisation d'un balayage relatif entre le substrat et la zone de détection dans la première direction, détermine si la variation de hauteur dans la première distribution est ou n'est pas supérieure ou égale à une valeur de référence et acquiert la distribution de la hauteur de surface du substrat le long de la seconde direction par la réalisation d'un balayage relatif entre le substrat et la zone de détection dans la seconde direction lorsqu'il est déterminé que la variation de hauteur dans la première distribution est inférieure à la valeur de référence.
(JA)互いに異なる第1方向および第2方向のうちの一方における高さばらつきより他方における高さばらつきの方が大きい面を有する基板に対し、当該面の高さ分布を計測する計測装置は、検出領域内の検出対象箇所の高さを検出する検出部と、前記基板と前記検出領域とを相対的に走査させることにより走査方向における前記基板の面の高さ分布を求める処理部と、を含み、前記処理部は、前記第1方向に前記基板と前記検出領域とを相対的に走査させることにより前記第1方向における前記基板の面の高さ分布を第1分布として求め、前記第1分布における高さばらつきが基準値以上か否かを判断し、前記第1分布における高さばらつきが基準値より小さいと判断した場合には、前記第2方向に前記基板と前記検出領域とを相対的に走査させることにより前記第2方向における前記基板の面の高さ分布を求める。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)