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1. (WO2018021562) 微細気泡洗浄装置及び微細気泡洗浄方法
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国際公開番号: WO/2018/021562 国際出願番号: PCT/JP2017/027551
国際公開日: 01.02.2018 国際出願日: 28.07.2017
IPC:
H01L 21/304 (2006.01) ,G02F 1/13 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
304
機械的処理,例.研摩,ポリシング,切断
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
出願人:
パナソニックIPマネジメント株式会社 PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市中央区城見2丁目1番61号 1-61, Shiromi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5406207, JP
発明者:
日高 義晴 HIDAKA Yoshiharu; --
山本 寛 YAMAMOTO Hiroshi; --
代理人:
廣幸 正樹 HIROKOH Masaki; JP
優先権情報:
2016-15077029.07.2016JP
発明の名称: (EN) MICROBUBBLE CLEANING DEVICE AND MICROBUBBLE CLEANING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE NETTOYAGE À MICROBULLES ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE À MICROBULLES
(JA) 微細気泡洗浄装置及び微細気泡洗浄方法
要約:
(EN) There are cases in which even when fine bubbles are to be used for cleaning a semiconductor or an electronic device, the fine bubbles are stably present for a long time and do not therefore efficiently collapse on the surface of an object being cleaned. This microbubble cleaning device is characterized by having: a microbubble generating device which generates microbubbles in a cleaning liquid and thereby generates a bubble cleaning liquid; a spontaneous bubble-collapse device which generates a short-life bubble cleaning liquid by decreasing the life of the microbubbles in the cleaning liquid; and a cleaning bath in which the short-life bubble cleaning liquid and an object being cleaned are brought into contact. The microbubble cleaning device sets, in advance, the life of microbubbles to be short and therefore causes the microbubbles to be spontaneously collapse upon reaching the object being cleaned, thereby increasing cleaning capability.
(FR) Selon la présente invention, il existe des cas dans lesquels, même lorsque de fines bulles doivent être utilisées pour nettoyer un semi-conducteur ou un dispositif électronique, les bulles fines sont présentes de manière stable pendant une longue période et ne peuvent donc pas s'éclater efficacement sur la surface d'un objet étant nettoyé. Ce dispositif de nettoyage à microbulles est caractérisé en ce qu'il comporte : un dispositif de génération de microbulles qui génère des microbulles dans un liquide de nettoyage et génère ainsi un liquide de nettoyage à bulles ; un dispositif d'éclatement spontané de bulles qui génère un liquide de nettoyage à bulles de courte durée de vie en réduisant la durée de vie des microbulles dans le liquide de nettoyage ; et un bain de nettoyage dans lequel le liquide de nettoyage à bulles de courte durée de vie et un objet devant être nettoyé sont mis en contact. Le dispositif de nettoyage à microbulles règle, à l'avance, la durée de vie des microbulles pour qu'elle soit courte et, par conséquent, amène les microbulles à s'éclater spontanément après avoir atteint l'objet étant nettoyé, ce qui permet d'augmenter la capacité de nettoyage.
(JA) 半導体や電子デバイスの洗浄にファインバブルを利用しようとしても、ファインバブルは長期間安定に存在するので、被洗浄物の表面で効率よく圧壊しない場合がある。 洗浄液中に微細気泡を発生させ、気泡洗浄液を生成する微細気泡発生装置と、前記気泡洗浄液中の前記微細気泡の寿命を短くし、短寿命気泡洗浄液を生成する気泡自発圧壊装置と、前記短寿命気泡洗浄液と被洗浄物を接触させる洗浄槽を有することを特徴とする微細気泡洗浄装置は、予め微細気泡の寿命を短く設定するので、被洗浄物に到達したときに自発圧壊させ、洗浄力を高める。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)