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1. (WO2018021497) 感光性樹脂組成物、硬化物、層間絶縁膜、TFTアクティブマトリックス基板、及び画像表示装置
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国際公開番号: WO/2018/021497 国際出願番号: PCT/JP2017/027325
国際公開日: 01.02.2018 国際出願日: 27.07.2017
IPC:
G03F 7/027 (2006.01) ,C08F 2/50 (2006.01) ,C08F 290/14 (2006.01) ,G02F 1/1333 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/031 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
2
重合方法
46
波動エネルギーまたは粒子線の照射によって開始される重合
48
紫外線または可視光線によるもの
50
増感剤を用いるもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
290
脂肪族不飽和の末端基または側基の導入により変性された重合体に,単量体を重合させて得られる高分子化合物
08
不飽和側基の導入により変性された重合体への
14
サブクラスC08Gに分類される重合体
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
028
増感物質をもつもの,例.光重合開始剤
031
グループ7/029に包含されない有機化合物
出願人:
三菱ケミカル株式会社 MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目1番1号 1-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008251, JP
発明者:
石井 宏明 ISHII Hiroaki; JP
斎藤 恵子 SAITO Keiko; JP
代理人:
特許業務法人栄光特許事務所 EIKOH PATENT FIRM, P.C.; 東京都港区西新橋一丁目7番13号 虎ノ門イーストビルディング10階 Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
優先権情報:
2016-15061029.07.2016JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT, INTERLAYER INSULATING FILM, TFT ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PRODUIT DURCI, FILM ISOLANT INTERCOUCHE, SUBSTRAT DE MATRICE ACTIVE TFT ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGE
(JA) 感光性樹脂組成物、硬化物、層間絶縁膜、TFTアクティブマトリックス基板、及び画像表示装置
要約:
(EN) This photosensitive resin composition contains (a) zirconium dioxide particles, (b) a dispersant, (c) a solvent, (d) a binder resin, (e) polymerizable monomers, and (f) a polymerization initiator, the binder resin (d) containing an epoxy (meth)acrylate resin having the repeating unit structure expressed in formula (I) and/or an epoxy (meth)acrylate resin having the partial structure represented in formula (II). (In the formulas, each of R1, R2, R3, R4, and * is as defined in the specification.)
(FR) L'invention concerne une composition de résine photosensible comprenant (a) des particules de dioxyde de zirconium, (b) un dispersant, (c) un solvant, (d) une résine liante, (e) des monomères polymérisables et (f) un amorceur de polymérisation, la résine liante (d) comprenant une résine époxy (méth)acrylate présentant la structure d'unité répétitive exprimée dans la formule (I) et/ou une résine époxy (méth)acrylate présentant la structure partielle représentée dans la formule (II). (Dans les formules, R1, R2, R3, R4, et * sont tels que définis dans la description.)
(JA) 本発明の感光性樹脂組成物は、(a)二酸化ジルコニウム粒子、(b)分散剤、(c)溶剤、(d)バインダー樹脂、(e)重合性モノマー及び(f)重合開始剤を含有し、前記(d)バインダー樹脂が、下記式(I)で表される繰り返し単位構造を有するエポキシ(メタ)アクリレート樹脂及び下記式(II)で表される部分構造を有するエポキシ(メタ)アクリレート樹脂の少なくとも一方を含有する。(式中、R、R、R、R、*は、それぞれ、明細書に記載された定義と同様である。)
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)