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1. (WO2018021428) 研磨パッドおよびそれを用いた研磨方法

Pub. No.:    WO/2018/021428    International Application No.:    PCT/JP2017/027095
Publication Date: Fri Feb 02 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Thu Jul 27 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 21/304
B24B 37/24
C08J 5/14
Applicants: KURARAY CO., LTD.
株式会社クラレ
Inventors: TAKEGOSHI Minori
竹越 穣
KATO Mitsuru
加藤 充
OKAMOTO Chihiro
岡本 知大
KATO Shinya
加藤 晋哉
Title: 研磨パッドおよびそれを用いた研磨方法
Abstract:
pH10.0におけるゼータ電位が+0.1mV以上である研磨面を有する研磨パッドが提供される。好ましくは、3級アミンを有するポリウレタンを含む研磨パッドが提供される。さらに好ましくは、3級アミンを有するポリウレタンは、3級アミンを有する鎖伸長剤を少なくとも含むポリウレタン反応原料の反応物である。また、それらの研磨パッドを用いたアルカリ性の研磨スラリーを供給しながら行う研磨方法が提供される。