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1. (WO2018021049) 樹脂組成物
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国際公開番号: WO/2018/021049 国際出願番号: PCT/JP2017/025573
国際公開日: 01.02.2018 国際出願日: 13.07.2017
IPC:
C08L 33/04 (2006.01) ,C08F 220/32 (2006.01) ,C08L 63/00 (2006.01) ,G02B 1/04 (2006.01) ,G02B 3/00 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L
高分子化合物の組成物
33
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物,またはその塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体の組成物;そのような重合体の誘導体の組成物
04
エステルの単独重合体または共重合体
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10
エステル
26
カルボキシ酸素以外の酸素を含有するエステル
32
エポキシ基をもつもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L
高分子化合物の組成物
63
エポキシ樹脂の組成物;エポキシ樹脂の誘導体の組成物
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
1
使用物質によって特徴づけられた光学要素;光学要素のための光学的コーティング
04
有機物質,例.合成樹脂,で作られたもの
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
3
単レンズまたは複合レンズ
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
038
不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
出願人:
日産化学株式会社 NISSAN CHEMICAL CORPORATION [JP/JP]; 東京都中央区日本橋二丁目5番1号 5-1, Nihonbashi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1036119, JP
発明者:
菅原 由紀 SUGAWARA, Yuki; JP
安達 勲 ADACHI, Isao; JP
坂口 崇洋 SAKAGUCHI, Takahiro; JP
大竹 陽介 OTAKE, Yosuke; JP
代理人:
特許業務法人はなぶさ特許商標事務所 HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; 東京都千代田区神田駿河台3丁目2番地 新御茶ノ水アーバントリニティ Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062, JP
優先権情報:
2016-14889328.07.2016JP
発明の名称: (EN) RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE
(JA) 樹脂組成物
要約:
(EN) [Problem] To provide a resin composition which is capable of forming a cured film that has excellent solvent resistance, heat resistance, transparency and planarization properties. [Solution] A resin composition which contains a self-crosslinkable copolymer having a structural unit represented by formula (1) and a structural unit represented by formula (2), and an acid generator. (In the formulae, R0 represents a hydrogen atom or a methyl group; X represents a single bond or an ethyleneoxy group; R1 represents a single bond or a methylene group; A1 represents a cycloalkyl group having 5 or 6 carbon atoms, or a biphenylyl group; and A2 represents an epoxy cyclohexyl group or an epoxy group.)
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir une composition de résine qui est capable de former un film durci présentant d'excellentes propriétés de résistance aux solvants, de résistance à la chaleur, de transparence et de planarisation. La solution selon l’invention consiste à fournir une composition de résine qui contient un copolymère auto-réticulable ayant une unité structurale représentée par la formule (1) et une unité structurale représentée par la formule (2), et un générateur d'acide. (Dans les formules, R0 représente un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle ; X représente une liaison simple ou un groupe éthylèneoxy ; R1 représente une liaison simple ou un groupe méthylène ; A1 représente un groupe cycloalkyle ayant 5 ou 6 atomes de carbone, ou un groupe biphénylyle ; et A2 représente un groupe époxy cyclohexyle ou un groupe époxy.)
(JA) 【課題】 優れた耐溶剤性、耐熱性、透明性及び平坦化性を有する硬化膜を形成できる樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 下記式(1)で表される構造単位及び下記式(2)で表される構造単位を有する自己架橋性共重合体、及び酸発生剤を含む樹脂組成物。(式中、R0は水素原子又はメチル基を表し、Xは単結合又はエチレンオキシ基を表し、R1は単結合又はメチレン基を表し、A1は炭素原子数5又は6のシクロアルキル基又はビフェニリル基を表し、A2はエポキシシクロヘキシル基又はエポキシ基を表す。)
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)