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1. (WO2018020949) ガス分離膜、ガス分離膜モジュールおよびガス分離装置
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国際公開番号: WO/2018/020949 国際出願番号: PCT/JP2017/023880
国際公開日: 01.02.2018 国際出願日: 29.06.2017
IPC:
B01D 69/12 (2006.01) ,B01D 53/22 (2006.01) ,B01D 69/02 (2006.01) ,B01D 71/10 (2006.01) ,B01D 71/32 (2006.01) ,B01D 71/40 (2006.01) ,B01D 71/64 (2006.01) ,B01D 71/70 (2006.01)
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
69
形状,構造または特性に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
12
複合膜;超薄膜
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
53
ガスまたは蒸気の分離;ガスからの揮発性溶剤蒸気の回収;廃ガスの化学的または生物学的浄化,例.エンジン排気ガス,煙,煙霧,煙道ガスまたはエアロゾル
22
拡散によるもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
69
形状,構造または特性に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
02
それらの特性に特徴のあるもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
06
有機材料
08
多糖類
10
セルロース;セルロース変性物
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
06
有機材料
30
ポリアルケニルハロゲン化合物
32
ふっ素原子を含むもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
06
有機材料
40
不飽和酸の重合体またはそれらの誘導体,例.塩,アミド,イミド,ニトリル,無水物,エステル
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
06
有機材料
58
主鎖に酸素または炭素のみを有しまたは有せずに窒素を含有する他の重合体
62
主鎖に窒素含有複素環を有する重縮合体
64
ポリイミド;ポリアミド―イミド;ポリエステル―イミド;ポリアミド酸または類似のポリイアミド先駆物質
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
06
有機材料
70
主鎖に硫黄,窒素,酸素または炭素のみを有しまたは有せずにけい素を含有する重合体
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
望月 勇輔 MOCHIZUKI Yusuke; JP
向井 厚史 MUKAI Atsushi; JP
原田 基 HARADA Motoi; JP
澤田 真 SAWADA Makoto; JP
代理人:
中島 順子 NAKASHIMA Junko; JP
米倉 潤造 YONEKURA Junzo; JP
村上 泰規 MURAKAMI Yasunori; JP
優先権情報:
2016-14526725.07.2016JP
発明の名称: (EN) GAS SEPARATION MEMBRANE, GAS SEPARATION MEMBRANE MODULE AND GAS SEPARATION DEVICE
(FR) MEMBRANE DE SÉPARATION DE GAZ, MODULE DE MEMBRANE DE SÉPARATION DE GAZ ET DISPOSITIF DE SÉPARATION DE GAZ
(JA) ガス分離膜、ガス分離膜モジュールおよびガス分離装置
要約:
(EN) Provided are a gas separation membrane, a gas separation membrane module and a gas separation device, each of which has high gas separation selectivity, while being suppressed in decrease of the gas separation selectivity after exposure to an impurity gas. The gas separation membrane, the gas separation membrane module and the gas separation device comprise a first separation layer and a second separation layer; the first separation layer has an Si/C ratio of 0.3 or less, said Si/C ratio being the ratio of the number of silicon atoms to the number of carbon atoms at the second separation layer-side interface of the first separation layer; the second separation layer has a maximum value of the F/C ratio of 0.20 or more, said F/C ratio being the ratio of the number of fluorine atoms to the number of carbon atoms; and the Si/C ratio in the portion where the F/C ratio is maximum is 0.3 or less.
(FR) L'invention concerne une membrane de séparation de gaz, un module de membrane de séparation de gaz et un dispositif de séparation de gaz, dont chacun présente une sélectivité de séparation de gaz élevée, tout en supprimant la diminution de la sélectivité de séparation des gaz après exposition à un gaz d'impureté. La membrane de séparation de gaz, le module de membrane de séparation de gaz et le dispositif de séparation de gaz comprennent une première couche de séparation et une seconde couche de séparation; la première couche de séparation a un rapport Si/C de 0,3 ou moins, ledit rapport Si/C étant le rapport entre le nombre d'atomes de silicium et le nombre d'atomes de carbone au niveau de la seconde interface côté couche de séparation de la première couche de séparation; la seconde couche de séparation a une valeur maximale du rapport F/C de 0,20 ou plus, ledit rapport F/C étant le rapport du nombre d'atomes de fluor au nombre d'atomes de carbone; et le rapport Si/C dans la partie où le rapport F/C est maximal est de 0,3 ou moins.
(JA) ガス分離選択性が高く、かつ、不純物ガス暴露後のガス分離選択性低下が抑制されたガス分離膜、ガス分離膜モジュール及びガス分離装置を提供する。ガス分離膜、ガス分離膜モジュール及びガス分離装置が、第一の分離層と、第二の分離層とを含み、第一の分離層は、第二の分離層側の第一の分離層の界面におけるケイ素原子の数の炭素原子の数に対する比であるSi/C比が0.3以下であり、第二の分離層は、フッ素原子の数の炭素原子の数に対する比であるF/C比の最大値が0.20以上であり、かつ、F/C比が最大値をとる部分におけるSi/C比が0.3以下である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)