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1. (WO2018016586) 静電チャック
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Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/016586    国際出願番号:    PCT/JP2017/026292
国際公開日: 25.01.2018 国際出願日: 20.07.2017
IPC:
H01L 21/683 (2006.01), H02N 13/00 (2006.01)
出願人: TOTO LTD. [JP/JP]; 1-1, Nakashima 2-chome, Kokurakita-ku, Kitakyushu-shi, Fukuoka 8028601 (JP)
発明者: YAMAGUCHI, Kosuke; (JP).
SASAKI, Hitoshi; (JP).
MAEHATA, Kengo; (JP).
KONDO, Shumpei; (JP).
YOSHII, Yuichi; (JP)
代理人: HYUGAJI, Masahiko; (JP).
KOZAKI, Junichi; (JP).
ICHIKAWA, Hiroshi; (JP)
優先権情報:
2016-142662 20.07.2016 JP
2017-051448 16.03.2017 JP
発明の名称: (EN) ELECTROSTATIC CHUCK
(FR) MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE
(JA) 静電チャック
要約: front page image
(EN)Provided is an electrostatic chuck equipped with a ceramic dielectric substrate on which an object to be treated is placed, a base plate for supporting the ceramic dielectric substrate, and a heater plate provided between the ceramic dielectric substrate and the base plate, wherein: the heater plate has a first and a second support plate, a heater element provided between the first support plate and the second support plate, a first resin layer provided between the first support plate and the heater element, and a second resin layer provided between the second support plate and the heater element; the surface of the first support plate on the second support plate-side thereof has a first region that overlaps the heater element and a second region that does not overlap the heater element, when viewed in the layering direction; and the second region projects farther toward the second support plate side than does the first region.
(FR)L'invention concerne un mandrin électrostatique équipé d'un substrat diélectrique en céramique sur lequel est placé un objet à traiter, une plaque de base pour supporter le substrat diélectrique en céramique, et une plaque chauffante disposée entre le substrat diélectrique en céramique et la plaque de base, la plaque chauffante présentant une première et une seconde plaque de support, un élément chauffant disposé entre la première plaque de support et la seconde plaque de support, une première couche de résine disposée entre la première plaque de support et l'élément chauffant, et une seconde couche de résine disposée entre la seconde plaque de support et l'élément chauffant; la surface de la première plaque de support sur le côté de la seconde plaque de support de celle-ci a une première région qui chevauche l'élément chauffant et une seconde région qui ne chevauche pas l'élément chauffant, lors de la vue dans la direction de stratification; et la seconde région se projette plus loin vers le côté de la seconde plaque de support que la première région.
(JA)処理対象物を載置するセラミック誘電体基板と、セラミック誘電体基板を支持するベースプレートと、セラミック誘電体基板とベースプレートとの間に設けられたヒータプレートと、を備え、ヒータプレートは、第1、2の支持板と、第1の支持板と第2の支持板との間に設けられたヒータエレメントと、第1の支持板とヒータエレメントとの間に設けられた第1の樹脂層と、第2の支持板とヒータエレメントとの間に設けられた第2の樹脂層と、を有し、第1の支持板の第2の支持板側の面は、積層方向に沿ってみたときに、ヒータエレメントと重なる第1領域と、ヒータエレメントと重ならない第2領域と、を有し、第2領域は、第1領域に比べて第2の支持板側に突出した静電チャックが提供される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)