WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2018016485) フォトマスク、フォトマスク製造方法、及びフォトマスクを用いたカラーフィルタの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/016485    国際出願番号:    PCT/JP2017/025967
国際公開日: 25.01.2018 国際出願日: 18.07.2017
IPC:
G03F 1/70 (2012.01), G02B 5/20 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
出願人: TOPPAN PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 5-1, Taito 1-chome, Taito-ku, Tokyo 1100016 (JP)
発明者: OKUMURA Akihito; (JP).
MIYAJI Hiroaki; (JP).
YAMADA Takehiro; (JP)
代理人: MATSUNUMA Yasushi; (JP).
SUZUKI Shirou; (JP).
SHIMIZU Yuichiro; (JP).
OTSUKI Makiko; (JP)
優先権情報:
2016-143333 21.07.2016 JP
2016-238997 09.12.2016 JP
発明の名称: (EN) PHOTOMASK, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER USING PHOTOMASK
(FR) PHOTOMASQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN PHOTOMASQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILTRE COLORÉ UTILISANT UN PHOTOMASQUE
(JA) フォトマスク、フォトマスク製造方法、及びフォトマスクを用いたカラーフィルタの製造方法
要約: front page image
(EN)Provided is a photomask used in scanning type projection exposure provided with a projection lens formed from multiple lenses, wherein the line width for a plurality of patterns (Cnn) for the photomask present in a region (SA2) transferred by scanning exposure including the connecting part (36a) of the multiple lenses is a corrected line width for the pattern line width of the same shape as the pattern (Cnn) for the photomask present in a region (SA1) transferred by scanning exposure not including the connecting part (36a).
(FR)L'invention concerne un photomasque utilisé dans une exposition par projection de type à balayage comportant un objectif de projection formé à partir de multiples objectifs, dans lequel la largeur de ligne pour une pluralité de motifs (Cnn) pour le photomasque présent dans une région (SA2) transférée par exposition de type à balayage comprenant la partie de connexion (36a) des multiples objectifs est une largeur de ligne corrigée pour la largeur de ligne de motif de la même forme que le motif (Cnn) pour le photomasque présent dans une région (SA1) transférée par exposition de type à balayage ne comprenant pas la partie de connexion (36a).
(JA)このフォトマスクは、マルチレンズからなる投影レンズを備えたスキャン方式の投影露光に用いるフォトマスクであって、前記マルチレンズの接続部(36a)を含むスキャン露光により転写される領域(SA2)に存在する前記フォトマスクの複数のパターン(Cnn)の線幅が、前記接続部(36a)を含まないスキャン露光により転写される領域(SA1)に存在する前記フォトマスクの前記パターン(Cnn)と同形のパターンの線幅に対して補正された線幅である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)