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1. (WO2018016131) プラズマ生成装置、基板処理装置及び半導体装置の製造方法

Pub. No.:    WO/2018/016131    International Application No.:    PCT/JP2017/012414
Publication Date: Fri Jan 26 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Tue Mar 28 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 21/31
C23C 16/509
H01L 21/318
H05H 1/46
Applicants: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION
株式会社KOKUSAI ELECTRIC
Inventors: SATO, Akihiro
佐藤 明博
TAKEDA, Tsuyoshi
竹田 剛
HIROCHI, Yukitomo
廣地 志有
Title: プラズマ生成装置、基板処理装置及び半導体装置の製造方法
Abstract:
基板を均一に処理することが可能な技術を提供する。高周波電源に接続される第1の電極と、接地される第2の電極と、を有し、前記第1の電極と前記第2の電極は、合計が3以上の奇数本で交互に配置され、前記第1の電極と前記第2の電極のいずれか一方の電極は、隣り合う2本の他方の電極に対して共通して用いられるプラズマ生成装置とそれを用いた技術が提供される。