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1. (WO2018012454) サスペンションプラズマ溶射用スラリー、希土類酸フッ化物溶射膜の形成方法及び溶射部材
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/012454    国際出願番号:    PCT/JP2017/025117
国際公開日: 18.01.2018 国際出願日: 10.07.2017
IPC:
C23C 4/10 (2016.01), C01F 17/00 (2006.01), C23C 4/134 (2016.01)
出願人: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 6-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004 (JP)
発明者: TAKAI Yasushi; (JP).
HAMAYA Noriaki; (JP)
代理人: PATENT PROFESSIONAL CORPORATION EI-MEI PATENT OFFICE; GINZA OHTSUKA Bldg. 2F, 16-12, Ginza 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040061 (JP)
優先権情報:
2016-139090 14.07.2016 JP
発明の名称: (EN) SLURRY FOR SUSPENSION PLASMA SPRAYING, METHOD FOR FORMING RARE EARTH ACID FLUORIDE SPRAYED FILM, AND SPRAYING MEMBER
(FR) BOUILLIE POUR PROJECTION PLASMA EN SUSPENSION, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM DE PROJECTION DE FLUORURE D’ACIDE DE TERRE RARE, ET ÉLÉMENT DE PROJECTION
(JA) サスペンションプラズマ溶射用スラリー、希土類酸フッ化物溶射膜の形成方法及び溶射部材
要約: front page image
(EN)Provided is a slurry for suspension plasma spraying, which is a spray material used for suspension plasma spraying in an atmosphere including an oxygen-containing gas, contains 5-40 mass% of rare earth fluoride particles having a maximum particle diameter (D100) of 12 μm or less, and contains one or more types of solvent selected from among water and organic solvents. A rare earth acid fluoride-containing sprayed film, in which process shift and particle generation hardly occur, can be stably formed on a base material by carrying out suspension plasma spraying in an atmosphere including an oxygen-containing gas. A spraying member provided with this sprayed film exhibits excellent corrosion resistance to halogen-based gas plasma.
(FR)L’invention concerne une bouillie pour projection plasma en suspension qui consiste en un matériau de projection mis en œuvre dans une projection plasma en suspension sous une atmosphère contenant un gaz à teneur en oxygène, qui comprend 5% en masse ou plus à 40% en masse ou moins de particules de fluorure de terre rare de diamètre particulaire maximal (D100) inférieur ou égal à 12μm, et qui présente en tant que solvant un ou plusieurs solvants choisis parmi une eau et des solvants organiques. Selon l’invention, un film de projection qui contient un fluorure d’acide de terre rare peu susceptible de provoquer un changement de processus ou une génération de particules, peut être formé de manière stable sur un matériau de base par projection plasma en suspension sous une atmosphère contenant un gaz à teneur en oxygène. Un élément de projection équipé de ce film de projection, présente d’excellentes propriétés anticorrosion vis-à-vis d’un plasma de gaz à base d’halogène.
(JA)酸素を含有するガスを含む雰囲気下でのサスペンションプラズマ溶射に用いられる溶射材料であって、最大粒子径(D100)が12μm以下の希土類フッ化物粒子を5質量%以上40質量%以下含有し、水及び有機溶媒から選ばれる1種又は2種以上を溶媒とするサスペンションプラズマ溶射用スラリー。基材上に、プロセスシフトや、パーティクルの発生が少ない希土類酸フッ化物を含む溶射膜を、酸素を含有するガスを含む雰囲気下で、サスペンションプラズマ溶射により、安定して形成することができる。この溶射膜を備える溶射部材は、ハロゲン系ガスプラズマに対する耐食性に優れている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)