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1. (WO2018012174) 研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法および研磨方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/012174    国際出願番号:    PCT/JP2017/021692
国際公開日: 18.01.2018 国際出願日: 12.06.2017
IPC:
C09K 3/14 (2006.01), B24B 37/00 (2012.01), C09G 1/02 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
出願人: FUJIMI INCORPORATED [JP/JP]; 1-1, Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-shi, Aichi 4528502 (JP)
発明者: SUZUKI, Shota; (JP).
IZAWA, Yoshihiro; (JP).
ISHIHARA, Naoyuki; (JP)
代理人: HATTA & ASSOCIATES; Dia Palace Nibancho, 11-9, Nibancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020084 (JP)
優先権情報:
2016-140613 15.07.2016 JP
2016-224956 18.11.2016 JP
発明の名称: (EN) POLISHING COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING POLISHING COMPOSITION, AND POLISHING METHOD
(FR) COMPOSITION DE POLISSAGE, PROCÉDÉ PERMETTANT DE PRODUIRE CETTE COMPOSITION DE POLISSAGE, ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE
(JA) 研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法および研磨方法
要約: front page image
(EN)The present invention provides a polishing composition which is capable of polishing an object to be polished, with high polishing speed, and few scratches (defects). The present invention relates to a polishing composition which includes silica and a dispersion medium, wherein the relaxation speed ratio (R2sp) obtained by formula 1 (with the caveat that, R(silica) represents the reciprocal (in millisecond units) of the relaxation time of the silica, and R(medium) represents the reciprocal (in millisecond units) of the relaxation time of the dispersion medium), as measured using pulse nuclear magnetic resonance (NMR), is in the range of 1.60-4.20 inclusive.
(FR)La présente invention concerne une composition de polissage qui est apte à polir un objet à polir en présentant une vitesse de polissage élevée, et peu de rayures (défauts). La présente invention concerne une composition de polissage qui comprend de la silice et un milieu de dispersion, le rapport de vitesse de relaxation des contraintes (R2sp) obtenu par la formule (1) (sous réserve que R(silice) représente l'inverse (en unités de l'ordre de la milliseconde) du temps de relaxation des contraintes de la silice, et que R(milieu) représente l’inverse (en unités de l'ordre de la milliseconde) du temps de relaxation des contraintes du milieu de dispersion), mesurée à l'aide de la résonance magnétique nucléaire (RMN) par impulsions, se situe dans la plage de 1,60 à 4,20 inclus.
(JA)本発明は、研磨対象物を高い研磨速度でかつ少ないスクラッチ(欠陥)で研磨できる研磨用組成物を提供する。本発明は、シリカと、分散媒と、を含む研磨用組成物であって、パルスNMRで測定した際の、下記式1: [ただし、R(silica)は、シリカの緩和時間の逆数(単位:/ミリ秒)を表わし、およびR(medium)は、分散媒の緩和時間の逆数(単位:/ミリ秒)を表わす]で求められる比緩和速度(R2sp)が1.60以上4.20以下である、研磨用組成物に関する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)