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1. (WO2018008681) 成膜装置、プラテンリング
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国際公開番号: WO/2018/008681 国際出願番号: PCT/JP2017/024641
国際公開日: 11.01.2018 国際出願日: 05.07.2017
IPC:
C23C 14/00 (2006.01) ,C23C 14/34 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
34
スパッタリング
出願人:
株式会社アルバック ULVAC, INC. [JP/JP]; 神奈川県茅ケ崎市萩園2500 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543, JP
発明者:
坂本 勇太 SAKAMOTO Yuta; JP
沼田 幸展 NUMATA Yukinobu; JP
小平 周司 KODAIRA Shuji; JP
代理人:
及川 周 OIKAWA Shu; JP
勝俣 智夫 KATSUMATA Tomoo; JP
土屋 亮 TSUCHIYA Ryo; JP
優先権情報:
2016-13453206.07.2016JP
発明の名称: (EN) FILM FORMATION DEVICE AND PLATEN RING
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM ET ANNEAU DE PLATINE
(JA) 成膜装置、プラテンリング
要約:
(EN) This film formation device is provided with: a chamber in which a target is contained; a stage which is disposed to face one surface of the target with a predetermined space therebetween and on which an object where a film is to be formed is placed; and a platen ring which has a facing surface facing the target and a groove formed on the facing surface, and surrounds the circumferential edge of the stage. The circumferential edge of the object placed on the stage protrudes from the circumferential edge of the stage so as to be located outside the circumferential edge of the stage, and the groove is located at a position corresponding to the circumferential edge of the object. The groove is provided around the periphery of the platen ring so that the second distance from the target to the groove is greater than the first distance from the target to the object. The groove has a curved back-surface-film-formation prevention surface which prevents film forming particles emitted from the target from depositing on the back surface of the object.
(FR) Cette invention concerne un dispositif de formation de film comprenant : une chambre dans laquelle est contenue une cible ; un étage qui est disposé de façon à faire face à une surface de la cible avec un espace prédéterminé entre ceux-ci et sur lequel est placé un objet sur lequel un film doit être formé ; et un anneau de platine qui a une surface orientée vers la cible et une rainure formée sur la surface opposée, et qui entoure le bord circonférentiel de l'étage. Le bord circonférentiel de l'objet placé sur l'étage dépasse du bord circonférentiel de l'étage de manière à être situé à l'extérieur du bord circonférentiel de l'étage, et la rainure est disposée à une position correspondant au bord circonférentiel de l'objet. La rainure est disposée autour de la périphérie de l'anneau de platine de telle sorte que la seconde distance de la cible à la rainure est supérieure à la première distance de la cible à l'objet. La rainure présente une surface incurvée de prévention de formation de film de surface arrière qui empêche des particules filmogènes émises par la cible de se déposer sur la surface arrière de l'objet.
(JA) 本発明の成膜装置は、ターゲットを収容するチャンバと、前記ターゲットの一面に所定の間隔を空けて対面して配され、被成膜物が載置されるステージと、前記ターゲットに対向する対向面と、前記対向面に形成された溝とを有し、前記ステージの周縁を囲むプラテンリングとを備える。前記ステージ上に載置される前記被成膜物の周縁は、前記ステージの周縁の外側に位置するように前記ステージの前記周縁からはみ出し、前記被成膜物の周縁に対応する位置に、前記溝が配置されており、前記ターゲットから前記被成膜物までの第1距離よりも、前記ターゲットから前記溝までの第2距離が大きくなるように、前記溝は、前記プラテンリングに周設されており、前記溝は、前記ターゲットから放出された成膜粒子が前記被成膜物の裏面に堆積することを防止する裏面着膜防止曲面を有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)