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1. (WO2018008610) 感光性組成物、重合体の製造方法、感光性組成物の製造方法、積層体の製造方法
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国際公開番号: WO/2018/008610 国際出願番号: PCT/JP2017/024403
国際公開日: 11.01.2018 国際出願日: 03.07.2017
IPC:
C08F 220/24 (2006.01) ,C08F 220/28 (2006.01) ,C08F 220/32 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10
エステル
22
ハロゲンを含有するエステル
24
パーハロアルキル基を含有するもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10
エステル
26
カルボキシ酸素以外の酸素を含有するエステル
28
アルコール残基中に芳香族環をもたないもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10
エステル
26
カルボキシ酸素以外の酸素を含有するエステル
32
エポキシ基をもつもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人: AGC INC.[JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405, JP
発明者: OBI Masaki; JP
SASAKI Miyako; JP
代理人: SENMYO Kenji; JP
OGAWA Toshiharu; JP
優先権情報:
2016-13641408.07.2016JP
2016-13641508.07.2016JP
2017-09077928.04.2017JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING POLYMER, METHOD FOR PRODUCING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING LAMINATE
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN POLYMÈRE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN STRATIFIÉ
(JA) 感光性組成物、重合体の製造方法、感光性組成物の製造方法、積層体の製造方法
要約:
(EN) Provided are: a photosensitive composition which is capable of forming a liquid repellent coating film that is free from coating unevenness; a method for producing this photosensitive composition; a method for producing a polymer which enables the formation of a liquid repellent coating film that is free from coating unevenness when used in a photosensitive composition; and a method for producing a laminate with use of this photosensitive composition. A photosensitive composition which contains at least one of the resin P1 and the resin P2 described below, and a photoinitiator. Resin P1: A resin that is formed of a polymer A which has a unit u1 having an organic group that has one or more fluorine atoms, a unit u2 having a crosslinkable group, and a terminal group represented by one of formula 1, formula 2 and formula 3 shown below. Resin P2: A resin that is formed of a polymer B which has the unit u1 but is not the polymer A and a polymer C which has the unit u2 but is not the polymer A, provided that at least one of the polymer B and the polymer C has the terminal group. -X1-C(R1)(R2)(R3) Formula 1 -X2-R4 Formula 2 -X3-N(R5)(R6) Formula 3
(FR) L'invention concerne : une composition photosensible qui est capable de former un film de revêtement repoussant les liquides qui est dénué d'irrégularités de revêtement; un procédé de production de ladite composition photosensible; un procédé de production d'un polymère qui permet la formation d'un film de revêtement repoussant les liquides qui est dénué d'irrégularités de revêtement quand il est utilisé dans une composition photosensible; et un procédé de production d'un stratifié à l'aide de ladite composition photosensible. Une composition photosensible qui contient au moins l'une des résines P1 et/ou P2 décrites ci-dessous, et un photoinitiateur est en outre décrite. Résine P1 : résine qui est formée d'un polymère A qui contient un motif u1 ayant un groupe organique comportant un ou plusieurs atomes de fluor, un motif u2 contenant un groupe réticulable, et un groupe terminal représenté par l'une des formule 1, formule 2 et formule 3 présentées ci-dessous. Résine P2 : résine qui est formée d'un polymère B qui contient le motif u1 mais n'est pas le polymère A et d'un polymère C qui contient le motif u2 mais n'est pas le polymère A, à condition qu'au moins un dudit polymère B et dudit polymère C comporte le groupe terminal. -X1-C(R1)(R2)(R3) Formule 1 -X2-R4 Formule 2 -X3-N(R5)(R6) Formule 3
(JA) 塗布ムラのない撥液性の塗膜を形成できる感光性組成物及びその製造方法、感光性組成物に用いたときに塗布ムラのない撥液性の塗膜を形成できる重合体の製造方法、並びに該感光性組成物を用いた積層体の製造方法の提供。 下記樹脂P1及び下記樹脂P2の少なくとも一方と、光開始剤と、を含む感光性組成物。樹脂P1:フッ素原子を1つ以上有する有機基を有する単位u1と、架橋基を有する単位u2とを有し、下式1、下式2及び下式3のいずれかで表される末端基を有する重合体Aからなる樹脂。樹脂P2:前記単位u1を有する、前記重合体A以外の重合体Bと、前記単位u2を有する、前記重合体A以外の重合体Cとからなり、前記重合体B及び前記重合体Cの少なくとも一方が、前記末端基を有する樹脂。-X-C(R)(R)(R)・・・1、-X-R・・・2、-X-N(R)(R)・・・3
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)