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1. (WO2018008376) 感光性組成物、転写フィルム、硬化膜、並びに、タッチパネル及びその製造方法
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国際公開番号: WO/2018/008376 国際出願番号: PCT/JP2017/022522
国際公開日: 11.01.2018 国際出願日: 19.06.2017
IPC:
G03F 7/038 (2006.01) ,C08F 290/12 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G06F 3/041 (2006.01) ,H05K 3/28 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
038
不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
290
脂肪族不飽和の末端基または側基の導入により変性された重合体に,単量体を重合させて得られる高分子化合物
08
不飽和側基の導入により変性された重合体への
12
サブクラスC08CまたはC08Fに分類される重合体
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
G 物理学
06
計算;計数
F
電気的デジタルデータ処理
3
計算機で処理しうる形式にデータを変換するための入力装置;処理ユニットから出力ユニットへデータを転送するための出力装置,例.インタフェース装置
01
ユーザーと計算機との相互作用のための入力装置または入力と出力が結合した装置
03
器具の位置または変位をコード信号に変換するための装置
041
変換手段よって特徴付けられたデジタイザー,例.タッチスクリーンまたはタッチパッド用のもの
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
3
印刷回路を製造するための装置または方法
22
印刷回路の2次的処理
28
非金属質の保護被覆を施すこと
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
有冨 隆志 ARIDOMI, Takashi; JP
漢那 慎一 KANNA, Shinichi; JP
山田 悟 YAMADA, Satoru; JP
代理人:
特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 東京都新宿区新宿4丁目3番17号 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
優先権情報:
2016-13449106.07.2016JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, TRANSFER FILM, CURED FILM, TOUCH PANEL, AND METHOD FOR MANUFACTURING TOUCH PANEL
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, FILM DE TRANSFERT, FILM DURCI, PANNEAU TACTILE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PANNEAU TACTILE
(JA) 感光性組成物、転写フィルム、硬化膜、並びに、タッチパネル及びその製造方法
要約:
(EN) The present invention provides a photosensitive composition and an application thereof, the photosensitive composition including structural units derived from a vinyl benzene derivative, structural units having a radical polymerizable group, and structural units having at least one functional group selected from the group consisting of primary hydroxy groups and amino groups, and the photosensitive composition also containing a radical polymerization initiator and a polymer (P) in which the contained amount of the structural units derived from a vinyl benzene derivative is at least 30 mol%.
(FR) La présente invention concerne une composition photosensible et une application de celle-ci, la composition photosensible comprenant des unités structurales dérivées d'un dérivé de benzène de vinyle, des unités structurales ayant un groupe polymérisable par voie radicalaire, et des unités structurales ayant au moins un groupe fonctionnel sélectionné dans le groupe constitué de groupes hydroxy primaire et de groupes amino, et la composition photosensible contenant également un initiateur de polymérisation par voie radicalaire et un polymère (P) dans lequel la quantité contenue des unités structurales dérivées d'un dérivé de benzène de vinyle est d'au moins 30 % en moles.
(JA) ビニルベンゼン誘導体に由来する構造単位、ラジカル重合性基を有する構造単位、並びに、1級水酸基及びアミノ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基を有する構造単位を含み、ビニルベンゼン誘導体に由来する構造単位の含有量が30mol%以上である重合体(P)と、ラジカル重合開始剤と、を含有する感光性組成物及びその応用。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)