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1. (WO2017221623) 透明電極の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

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国際公開番号:    WO/2017/221623    国際出願番号:    PCT/JP2017/019387
国際公開日: 28.12.2017 国際出願日: 24.05.2017
IPC:
H01B 13/00 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/26 (2006.01), H05B 33/28 (2006.01)
出願人: KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 2-7-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015 (JP)
発明者: SUEMATSU, Takatoshi; (JP).
KOJIMA, Shigeru; (JP).
HAKII, Takeshi; (JP)
代理人: KOYO INTERNATIONAL PATENT FIRM; 17F., Tokyo Takarazuka Bldg., 1-1-3, Yurakucho, Chiyoda-ku, Tokyo 1000006 (JP)
優先権情報:
2016-125453 24.06.2016 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT ELECTRODE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE ÉLECTRODE TRANSPARENTE
(JA) 透明電極の製造方法
要約: front page image
(EN)The objective of the present invention is to provide a method for producing a transparent electrode that has excellent conductivity and exhibits excellent rectifying characteristics if applied to an organic electronic device. A method for producing a transparent electrode according to the present invention is a method for producing a transparent electrode that has a patterned metal thin line on a transparent resin substrate and a transparent conductive layer formed on the metal thin line. This method for producing a transparent electrode is characterized by comprising: a step for printing a metal nano particle-containing composition in a pattern; a step for drying the metal nano particle-containing composition printed in the pattern; a step for forming a metal thin line by firing the dried metal nano particle-containing composition by means of flash light irradiation; and a step for forming a transparent conductive layer having a thickness within the range of 30-300 nm on the metal thin line. This method for producing a transparent electrode is also characterized in that a metal thin line is formed by firing the metal nano particle-containing composition in an atmosphere having an oxygen-containing material concentration within the range of 50-2,000 ppm by volume in the metal thin line formation step.
(FR)La présente invention concerne un procédé de production d'une électrode transparente qui présente une excellente conductivité et d'excellentes caractéristiques de redressement en cas d'application à un dispositif électronique organique. Selon l'invention, le procédé de production d'une électrode transparente consiste à produire une électrode transparente qui présente une ligne mince métallique à motifs sur un substrat en résine transparente, ainsi qu'une couche conductrice transparente formée sur la ligne mince métallique. Le procédé de production d'une électrode transparente est caractérisé en ce qu'il consiste : à imprimer une composition contenant des nanoparticules métalliques selon un motif ; à sécher la composition contenant des nanoparticules métalliques imprimée selon le motif ; à former une ligne mince métallique par cuisson de la composition contenant des nanoparticules métalliques séchées au moyen d'un rayonnement d'une lumière flash ; et à former, sur la ligne mince métallique, une couche conductrice transparente dont l'épaisseur se situe dans la plage de 30 à 300 nm. Le procédé de production d'une électrode transparente est également caractérisé en ce qu'une ligne mince métallique est formée par cuisson de la composition contenant des nanoparticules métalliques dans une atmosphère qui présente une concentration en matière contenant de l'oxygène se situant dans la plage de 50 à 2000 ppm en volume à l'étape de formation de la ligne mince métallique.
(JA)本発明の課題は、導電性に優れ、かつ、有機電子デバイスに適用した際に整流特性に優れる透明電極の製造方法を提供することである。 本発明の透明電極の製造方法は、透明樹脂基板上に、パターン状に形成された金属細線と、当該金属細線上に形成された透明導電層とを有する透明電極の製造方法であって、金属ナノ粒子含有組成物をパターン状に印刷する工程と、パターン状に印刷した金属ナノ粒子含有組成物を乾燥する工程と、乾燥させた金属ナノ粒子含有組成物にフラッシュ光を照射して焼成し、金属細線を形成する工程と、金属細線上に、厚さ30~300nmの範囲内の透明導電層を形成する工程と、を有し、金属細線を形成する工程では、酸素含有物質の濃度を50~2000体積ppmの範囲内とする雰囲気下で金属ナノ粒子含有組成物を焼成し、金属細線を形成することを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)