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1. (WO2017221478) 電界放射装置および改質処理方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2017/221478 国際出願番号: PCT/JP2017/010550
国際公開日: 28.12.2017 国際出願日: 16.03.2017
IPC:
H01J 35/06 (2006.01) ,H05G 1/00 (2006.01)
出願人: MEIDENSHA CORPORATION[JP/JP]; 1-1, Osaki 2-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1416029, JP
発明者: TAKAHASHI, Daizo; JP
HATANAKA, Michihiro; JP
代理人: KOBAYASHI, Hiromichi; JP
TOMIOKA, Kiyoshi; JP
UZAWA, Hidehisa; JP
優先権情報:
2016-12414923.06.2016JP
発明の名称: (EN) FIELD EMISSION DEVICE AND REFORMING TREATMENT METHOD
(FR) DISPOSITIF À ÉMISSION DE CHAMP ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE REFORMAGE
(JA) 電界放射装置および改質処理方法
要約: front page image
(EN) An emitter (3) and a target (7) are arranged oppositely in a vacuum chamber (1), and a guard electrode (5) is provided on the outer peripheral side of the electron generating unit (31) of the emitter (3). An emitter support unit (4), which comprises a moving body (40) which can move freely towards both ends of the vacuum chamber (1), supports the emitter (3) movably towards both ends. Reforming treatment of the guard electrode (5) involves operating the emitter support unit (4) and moving the emitter (3) to a non-discharge position to bring about a state in which field emission of the electron generating unit (31) is suppressed, and then applying a voltage to the guard electrode (5) and repeatedly discharging. After the reforming treatment, the emitter support unit (4) is again operated, the emitter (3) is moved into the discharge position, and, in a state in which a movement restriction unit (6) restricts movement of the moving body (40) towards the other end of the vacuum chamber (1), a state is brought about in which field emission of the electron generating unit (31) is possible.
(FR) Un émetteur (3) et une cible (7) sont disposés à l'opposé dans une chambre à vide (1), et une électrode de garde (5) est disposée sur le côté périphérique externe de l'unité de génération d'électrons (31) de l'émetteur (3). Une unité de support d'émetteur (4), qui comprend un corps mobile (40) qui peut se déplacer librement vers les deux extrémités de la chambre à vide (1), supporte l'émetteur (3) de manière mobile vers les deux extrémités. Le traitement de reformage de l'électrode de garde (5) consiste à faire fonctionner l'unité de support d'émetteur (4) et à déplacer l'émetteur (3) vers une position de non-décharge pour provoquer un état dans lequel l'émission de champ de l'unité de génération d'électrons (31) est supprimée, puis à appliquer une tension à l'électrode de garde (5) et à décharge de façon répétée. Après le traitement de reformage, l'unité de support d'émetteur (4) est à nouveau actionnée, l'émetteur (3) est déplacé dans la position de décharge et, dans un état dans lequel une unité de restriction de mouvement (6) limite le mouvement du corps mobile (40) vers l'autre extrémité de la chambre à vide (1), un état est provoqué dans lequel l'émission de champ de l'unité de génération d'électrons (31) est possible.
(JA) 真空室(1)においてエミッタ(3)およびターゲット(7)を互いに対向して配置し、エミッタ(3)の電子発生部(31)の外周側には、ガード電極(5)を備える。エミッタ(3)は、真空室(1)の両端方向に移動自在な移動体(40)を有したエミッタ支持部(4)により、当該両端方向に対し移動自在に支持する。ガード電極(5)の改質処理は、エミッタ支持部(4)を操作し、エミッタ(3)を無放電位置に移動して、電子発生部(31)の電界放射を抑制した状態にし、ガード電極(5)に電圧を印加し放電を繰り返して行う。改質処理の後は、再びエミッタ支持部(4)を操作し、エミッタ(3)を放電位置に移動し、移動規制部(6)により移動体(40)の真空室(1)の他端側への移動を規制した状態で、電子発生部(31)の電界放射を可能な状態にする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)