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1. (WO2017217292) 感光性樹脂組成物、感光性シート、硬化膜、素子、有機EL表示装置、半導体電子部品、半導体装置および有機EL表示装置の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

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国際公開番号:    WO/2017/217292    国際出願番号:    PCT/JP2017/021093
国際公開日: 21.12.2017 国際出願日: 07.06.2017
IPC:
H05B 33/22 (2006.01), C08G 73/10 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/023 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
出願人: TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038666 (JP)
発明者: KOMORI, Yusuke; (JP).
KAMEMOTO, Satoshi; (JP).
MIYOSHI, Kazuto; (JP)
優先権情報:
2016-119524 16.06.2016 JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE SHEET, CURED FILM, ELEMENT, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, SEMICONDUCTOR ELECTRONIC COMPONENT, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR PRODUCTION OF ORGANIC EL DISPLAY DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, FEUILLE PHOTOSENSIBLE, FILM DURCI, ÉLÉMENT, DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE, COMPOSANT ÉLECTRONIQUE SEMI-CONDUCTEUR, DISPOSITIF À SEMI-CONDUCTEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE
(JA) 感光性樹脂組成物、感光性シート、硬化膜、素子、有機EL表示装置、半導体電子部品、半導体装置および有機EL表示装置の製造方法
要約: front page image
(EN)Provided is a highly-sensitive photosensitive resin composition that has a high residual film ratio after being developed and that enables a cured film to exhibit high bending resistance. The present invention is a photosensitive resin composition that contains an alkali-soluble resin (a) and a photosensitive compound (b), wherein: the alkali-soluble resin (a) has, as a repeat unit, 95-100 mol% of the structure represented by general formula (1); and the alkali-soluble resin (a) has an organic group derived from an acid anhydride or a monoamine at one terminal of a polymer molecular chain of the alkali-soluble resin (a). (In general formula (1): R1 represents a divalent organic group; R2 and R3 independently represent hydrogen or an organic group having 1-20 carbon atoms; X1 and X2 independently represent a linear or branched alkylene group having 2-20 carbon atoms, a 1,3-phenylene group, or a 1,4-phenylene group, wherein R1, X1, and X2 each may vary among of a plurality of repeat units; and m and n each represent an integer in the range of 0-100,000, and satisfy m+n≥3).
(FR)L'invention concerne une composition de résine photosensible hautement sensible qui a un rapport de film résiduel élevé après avoir été développée et qui permet à un film durci de présenter une résistance à la flexion élevée. La présente invention concerne une composition de résine photosensible qui contient une résine soluble dans les alcalis (a) et un composé photosensible (b), dans laquelle : la résine soluble dans les alcalis (a) a, en tant qu'unité de répétition, 95 à 100 % en moles de la structure représentée par la formule générale (1) ; et la résine soluble dans les alcalis (a) possède un groupe organique dérivé d'un anhydride d'acide ou d'une monoamine à une extrémité d'une chaîne moléculaire polymère de la résine soluble dans les alcalis (a). (Dans la formule générale (1) : R1 représente un groupe organique divalent ; R2 et R3 représentent indépendamment de l'hydrogène ou un groupe organique ayant de 1 à 20 atomes de carbone ; X1 et X2 représentent indépendamment un groupe alkylène linéaire ou ramifié ayant de 2 à 20 atomes de carbone, un groupe 1,3-phénylène, ou un groupe 1,4-phénylène, où R1, X1 et X2 peuvent chacun varier parmi une pluralité d'unités de répétition ; et m et n représentent chacun un nombre entier compris entre 0 et 100 000, et satisfont m + n ≥ 3).
(JA)本発明は、現像後の残膜率が高く、硬化膜における折り曲げ耐性の高い、高感度な感光性樹脂組成物を提供する。本発明は、(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)感光性化合物を含有し、 前記(a)アルカリ可溶性樹脂が、一般式(1)で表される構造を繰り返し単位として95~100モル%有し、前記(a)アルカリ可溶性樹脂におけるポリマー分子鎖の少なくとも一方の末端にモノアミンまたは酸無水物に由来する有機基を有する感光性樹脂組成物である。 (一般式(1)中、Rは2価の有機基を示す。RおよびRは、それぞれ独立に水素または炭素数1~20の有機基を示す。XおよびXは、それぞれ独立に炭素数2~20の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、1,3-フェニレン基または1,4-フェニレン基を表す。R、XおよびXは複数の繰り返し単位においてそれぞれ異なっていてもよい。mおよびnはそれぞれ0~100,000の範囲内の整数であり、m+n≧3である。)
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)