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1. (WO2017208826) 薄膜製造方法、薄膜製造装置、光電変換素子の製造方法、論理回路の製造方法、発光素子の製造方法及び調光素子の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2017/208826    国際出願番号:    PCT/JP2017/018560
国際公開日: 07.12.2017 国際出願日: 17.05.2017
IPC:
C23C 16/46 (2006.01), C01B 21/064 (2006.01), C01G 39/06 (2006.01), C23C 14/56 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01), H01L 21/285 (2006.01)
出願人: SONY CORPORATION [JP/JP]; 1-7-1 Konan, Minato-ku, Tokyo 1080075 (JP)
発明者: KADONO, Koji; (JP).
IMAIZUMI, Shinji; (JP)
代理人: OMORI, Junichi; (JP)
優先権情報:
2016-107173 30.05.2016 JP
発明の名称: (EN) THIN FILM MANUFACTURING METHOD, THIN FILM MANUFACTURING APPARATUS, PHOTOELECTRIC CONVERSION ELEMENT MANUFACTURING METHOD, LOGIC CIRCUIT MANUFACTURING METHOD, LIGHT-EMITTING ELEMENT MANUFACTURING METHOD, AND LIGHT CONTROL ELEMENT MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE FABRICATION DE FILM MINCE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT DE CONVERSION PHOTOÉLECTRIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CIRCUIT LOGIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT ÉMETTEUR DE LUMIÈRE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT DE COMMANDE DE LUMIÈRE
(JA) 薄膜製造方法、薄膜製造装置、光電変換素子の製造方法、論理回路の製造方法、発光素子の製造方法及び調光素子の製造方法
要約: front page image
(EN)[Problem] To provide a thin film manufacturing method, a thin film manufacturing apparatus, a photoelectric conversion element manufacturing method, a logic circuit manufacturing method, a light-emitting element manufacturing method, and a light control element manufacturing method with which layer number control and heterogeneous lamination film formation are possible. [Solution] This thin film manufacturing method: brings an electrically conductive object on which a film is to be formed into contact with a first terminal and a second terminal and applies a voltage across the first terminal and the second terminal to heat a first region, which is the region of the object on which a film is to be formed between the first terminal and the second terminal; and forms a thin film in the first region by supplying a film-forming feedstock to the first region and controlling the reaction time so that a thin film with the intended number of layers is formed.
(FR)Le problème décrit par la présente invention est de fournir un procédé et un appareil de fabrication de film mince, un procédé de fabrication d'élément de conversion photoélectrique, un procédé de fabrication de circuit logique, un procédé de fabrication d'un élément émetteur de lumière et un procédé de fabrication d'un élément de commande de lumière permettant de commander le nombre de couches et la formation d'un film de stratification hétérogène. La solution consiste en un procédé de fabrication de film mince, laquelle : amène un objet électriquement conducteur, sur lequel un film doit être formé, en contact avec une première borne et une seconde borne et applique une tension entre la première borne et la seconde borne afin de chauffer une première région, qui est la région de l'objet sur laquelle un film doit être formé entre la première borne et la seconde borne; et forme un film mince dans la première région en fournissant une charge d'alimentation filmogène à la première région et en commandant le temps de réaction de telle sorte qu'un film mince ayant le nombre voulu de couches soit formé.
(JA)【課題】層数制御及び異種積層成膜が可能な薄膜製造方法、薄膜製造装置、光電変換素子の製造方法、論理回路の製造方法、発光素子の製造方法及び調光素子の製造方法を提供すること。 【解決手段】本技術に係る薄膜製造方法は、導電性を有する成膜対象物を第1の端子と第2の端子に当接させ、第1の端子と第2の端子の間に電圧を印加して、成膜対象物の第1の端子と第2の端子の間の領域である第1の領域を加熱し、第1の領域に成膜原料を供給し、所望の層数を有する薄膜が成膜されるように反応時間を制御して第1の領域に薄膜を成膜する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)