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1. (WO2017208560) 磁場計測用電子顕微鏡、及び磁場計測法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2017/208560    国際出願番号:    PCT/JP2017/009982
国際公開日: 07.12.2017 国際出願日: 13.03.2017
IPC:
H01J 37/22 (2006.01), H01J 37/20 (2006.01), H01J 37/26 (2006.01)
出願人: HITACHI, LTD. [JP/JP]; 6-6, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008280 (JP)
発明者: TANIGAKI Toshiaki; (JP).
SUGAWARA Akira; (JP).
AKASHI Tetsuya; (JP)
代理人: POLAIRE I.P.C.; 13-11, Nihonbashikayabacho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030025 (JP)
優先権情報:
2016-108692 31.05.2016 JP
発明の名称: (EN) ELECTRON MICROSCOPE FOR MAGNETIC FIELD MEASUREMENT AND MAGNETIC FIELD MEASUREMENT METHOD
(FR) MICROSCOPE ÉLECTRONIQUE DESTINÉ À LA MESURE DE CHAMP MAGNÉTIQUE, ET PROCÉDÉ DE MESURE DE CHAMP MAGNÉTIQUE
(JA) 磁場計測用電子顕微鏡、及び磁場計測法
要約: front page image
(EN)An electron microscope for measuring electromagnetic field information, wherein the electric field distribution and the magnetic field distribution of a sample are isolated and measured in a highly accurate manner. This invention comprises an electron source 1, an electron gun deflection coil 3, converging lenses 4a, 4b, an irradiation system astigmatism correction coil 5, an irradiation system deflection coil 6, a magnetic field application coil 8, an objective lens 11, an imaging system astigmatism correction coil 12, imaging system deflection coils 13a, 13b, a magnifying lens 17, an electron detector 18, and a control analysis device 20, etc. A first magnetic field is applied to a control analysis sample 10, then a first electron beam control is performed and first electromagnetic field information is measured by the output signal of the electron detector. Next, a second magnetic field is applied, then a second electron beam control is performed and second electromagnetic field information is similarly measured. The above process is repeated several times, and the electric field distribution and the magnetic field distribution of the sample are isolated and measured in a highly accurate manner from the obtained first and second electromagnetic field information.
(FR)L'invention concerne un microscope électronique destiné à mesurer des informations de champ électromagnétique, la distribution du champ électrique et la distribution du champ magnétique d'un échantillon étant isolées et mesurées d'une manière très précise. Cette invention comprend une source d'électrons (1), une bobine de déviation de canon à électrons (3), des lentilles convergentes (4a, 4b), une bobine de correction d'astigmatisme de système d'exposition (5), une bobine de déviation de système d'exposition (6), une bobine d'application de champ magnétique (8), une lentille de focalisation (11), une bobine de correction d'astigmatisme de système d'imagerie (12), des bobines de déviation de système d'imagerie (13a, 13b), une lentille grossissante (17), un détecteur d'électrons (18) et un dispositif d'analyse de commande (20), etc. Un premier champ magnétique est appliqué à un échantillon d'analyse de commande (10), puis une première commande de faisceau d'électrons est effectuée et des premières informations de champ électromagnétique sont mesurées par le signal de sortie du détecteur d'électrons. Ensuite, un second champ magnétique est appliqué, puis une seconde commande de faisceau d'électrons est effectuée et des secondes informations de champ électromagnétique sont mesurées d'une manière similaire. Le processus ci-dessus est répété plusieurs fois, et la distribution du champ électrique et la distribution du champ magnétique de l'échantillon sont isolées et mesurées d'une manière très précise à partir des premières et secondes informations de champ électromagnétique obtenues.
(JA)電磁場情報を計測する電子顕微鏡において、高精度に試料の電場分布と磁場分布を分離し計測する。電子源1、電子銃偏向コイル3、収束レンズ4a、4b、照射系非点補正コイル5、照射系偏向コイル6、磁場印加コイル8、対物レンズ11、結像系非点補正コイル12、結像系偏向コイル13a、13b、拡大レンズ17、電子検出器18、制御解析装置20等から構成され、制御解析試料10に第一の磁場を印加した後に、第一の電子線制御を行ない電子検出器の出力信号で第一の電磁場情報を計測し、次に第二の磁場を印加した後に、第二の電子線制御を行い、同様に第二の電磁場情報を計測することを複数回繰り返し、得られた第一と第二の電磁場情報から高精度に試料の電場分布と磁場分布を分離して計測する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)