処理中

しばらくお待ちください...

設定

設定

出願の表示

1. WO2017163565 - 研磨材

公開番号 WO/2017/163565
公開日 28.09.2017
国際出願番号 PCT/JP2017/001708
国際出願日 19.01.2017
IPC
B24D 3/00 2006.01
B処理操作;運輸
24研削;研磨
D研削,バフ加工,または刃砥ぎ用工具
3研磨体または研磨シートの物理的特徴,例.特別な性質の研磨表面;構成成分により特徴づけられる研磨体または研磨シート
B24D 11/00 2006.01
B処理操作;運輸
24研削;研磨
D研削,バフ加工,または刃砥ぎ用工具
11可撓性研磨素材の構造的特徴;そのような素材の製造における特徴
CPC
B24D 11/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
24GRINDING; POLISHING
DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING, OR SHARPENING
11Constructional features of flexible abrasive materials; Special features in the manufacture of such materials
B24D 11/04
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
24GRINDING; POLISHING
DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING, OR SHARPENING
11Constructional features of flexible abrasive materials; Special features in the manufacture of such materials
04Zonally-graded surfaces
B24D 3/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
24GRINDING; POLISHING
DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING, OR SHARPENING
3Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
B24D 3/28
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
24GRINDING; POLISHING
DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING, OR SHARPENING
3Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
02the constituent being used as bonding agent
20and being essentially organic
28Resins ; or natural or synthetic macromolecular compounds
出願人
  • バンドー化学株式会社 BANDO CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 高木 大輔 TAKAGI Daisuke
  • 岩永 友樹 IWANAGA Tomoki
  • 西藤 和夫 SAITO Kazuo
  • 田浦 歳和 TAURA Toshikazu
代理人
  • 天野 一規 AMANO Kazunori
優先権情報
2016-06132425.03.2016JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) POLISHING MATERIAL
(FR) MATÉRIAU DE POLISSAGE
(JA) 研磨材
要約
(EN)
The purpose of the present invention is to provide a polishing material which is not susceptible to decrease of the polishing rate over a relatively long period of time. The present invention is a polishing material which comprises a base sheet and a polishing layer that is laminated on the front surface of the base sheet and contains abrasive grains and a binder, and which is characterized in that: the polishing layer comprises a plurality of kinds of abrasive grains; and if first abrasive grains are a kind of abrasive grains having the largest grain diameter among the plurality of kinds of abrasive grains and second abrasive grains are a kind of abrasive grains having the second largest grain diameter among the plurality of kinds of abrasive grains, the ratio of the average grain diameter of the second abrasive grains to the average grain diameter of the first abrasive grains is from 5% to 70% (inclusive). It is preferable that the total content of the abrasive grains in the polishing layer is from 50% by volume to 85% by volume (inclusive). It is preferable that the content of the first abrasive grains in the polishing layer is from 1% by volume to 25% by volume (inclusive). It is preferable that the first abrasive grains are diamond abrasive grains and the second abrasive grains are alumina abrasive grains.
(FR)
La présente invention vise à procurer un matériau de polissage qui n'est pas susceptible de subir une diminution du taux de polissage au cours d'une période de temps relativement longue. À cet effet, la présente invention porte sur un matériau de polissage, lequel matériau comprend une feuille de base et une couche de polissage qui est stratifiée sur la surface avant de la feuille de base et qui comporte des grains abrasifs et un liant, et lequel est caractérisé en ce que : la couche de polissage comprend une pluralité de types de grains abrasifs ; et, si des premiers grains abrasifs sont un type de grains abrasifs présentant le plus grand diamètre de grains parmi la pluralité de types de grains abrasifs, et que des seconds grains abrasifs sont un type de grains abrasifs présentant le second plus grand diamètre de grains parmi la pluralité de types de grains abrasifs, le rapport du diamètre de grains moyen des seconds grains abrasifs au diamètre de grains moyen des premiers grains abrasifs est de 5 % à 70 % (inclus). Il est préférable que la teneur totale des grains abrasifs dans la couche de polissage soit de 50 % en volume à 85 % en volume (inclus). Il est préférable que la teneur des premiers grains abrasifs dans la couche de polissage soit de 1 % en volume à 25 % en volume (inclus). Il est préférable que les premiers grains abrasifs soient des grains abrasifs en diamant et que les seconds grains abrasifs soient des grains abrasifs en alumine.
(JA)
本発明は、比較的長期間に渡り研磨レートが低下し難い研磨材を提供することを目的とする。本発明は、基材シートと、この基材シートの表面側に積層され、砥粒及びそのバインダーを含む研磨層とを備える研磨材であって、上記研磨層が複数種の砥粒を有し、上記複数種の砥粒のうち、平均粒子径が最も大きい砥粒を第1砥粒、及び平均粒子径が2番目に大きい砥粒を第2砥粒とする場合、第1砥粒の平均粒子径に対する第2砥粒の平均粒子径の比が5%以上70%以下であることを特徴とする。上記研磨層における上記砥粒の総含有量としては、50体積%以上85体積%以下が好ましい。上記研磨層における上記第1砥粒の含有量としては、1体積%以上25体積%以下が好ましい。上記第1砥粒がダイヤモンド砥粒であり、上記第2砥粒がアルミナ砥粒であることが好ましい。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報