国際・国内特許データベース検索
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1. (WO2017111090) 圧電薄膜、圧電薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2017/111090 国際出願番号: PCT/JP2016/088501
国際公開日: 29.06.2017 国際出願日: 22.12.2016
IPC:
C30B 29/32 (2006.01) ,B41J 2/14 (2006.01) ,C04B 35/475 (2006.01) ,C23C 14/08 (2006.01) ,C23C 14/24 (2006.01) ,C23C 14/28 (2006.01) ,G11B 5/596 (2006.01) ,G11B 21/10 (2006.01) ,G11B 21/21 (2006.01) ,H01L 41/09 (2006.01) ,H01L 41/113 (2006.01) ,H01L 41/187 (2006.01) ,H02N 2/02 (2006.01) ,H02N 2/18 (2006.01)
C 化学;冶金
30
結晶成長
B
単結晶成長;共晶物質の一方向固化または共析晶物質の一方向析出;物質のゾーンメルティングによる精製;特定構造を有する均質多結晶物質の製造;単結晶または特定構造を有する均質多結晶物質;単結晶または特定構造を有する均質多結晶物質の後処理;そのための装置
29
材料または形状によって特徴づけられた単結晶または特定構造を有する均質多結晶物質
10
無機化合物または組成物
16
酸化物
22
複合酸化物
32
チタン酸塩;ゲルマニウム酸塩;モリブデン酸塩;タングステン酸塩
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
J
タイプライタ;選択的プリンティング機構,すなわち版以外の手段でプリンティングする機構;誤植の修正
2
設計されるプリンティングまたはマーキング方法に特徴があるタイプライタまたは選択的プリンティング機構
005
液体または粒子を選択的にプリンティング材料に接触させることに特徴があるもの
01
インクジェット
135
ノズル
14
その構造
C 化学;冶金
04
セメント;コンクリート;人造石;セラミックス;耐火物
B
石灰;マグネシア;スラグ;セメント;その組成物,例.モルタル,コンクリートまたは類似の建築材料;人造石;セラミックス;耐火物;天然石の処理
35
組成に特徴を持つ成形セラミック製品;セラミック組成;セラミック製品を製造するための無機化合物粉末の処理
01
酸化物を基とするもの
46
酸化チタンまたはチタン酸塩を基とするもの
462
チタン酸塩を基とするもの
475
チタン酸ビスマスを基とするもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06
被覆材料に特徴のあるもの
08
酸化物
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
24
真空蒸着
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
24
真空蒸着
28
波動エネルギーまたは粒子放射によるもの
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
48
記録担体に相対的なヘッドの配置または取付け
58
変換動作中におけるヘッドと記録担体との相対的な整列関係を維持するためにヘッドを動かす手段を有するもの,例.記録担体の表面不規則性またはトラック追従性を補償するためのもの
596
ディスク上のトラック追従のためのもの
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
21
記録または再生方法に特徴がないヘッド機構
02
ヘッドの駆動または移動
10
ヘッドの移動によるトラック探索または整列
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
21
記録または再生方法に特徴がないヘッド機構
16
ヘッドの支持;プラグイン式ヘッドのためのソケットの支持
20
ヘッドが動作位置にある間で静止しているかまたは記録担体の表面の不規則状態に追従して微小移動が許容されている間のもの
21
記録担体からのヘッドの所望間隙を保持する手段を有するもの,例.流体力学的スペーシング,スライダ
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
41
圧電装置一般;電歪装置一般;磁歪装置一般;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの装置の細部
08
圧電または電歪素子
09
電気的入力および機械的出力をもつもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
41
圧電装置一般;電歪装置一般;磁歪装置一般;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの装置の細部
08
圧電または電歪素子
113
機械的入力および電気的出力をもつもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
41
圧電装置一般;電歪装置一般;磁歪装置一般;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの装置の細部
16
材料の選択
18
圧電または電歪素子用
187
セラミック組成物
H 電気
02
電力の発電,変換,配電
N
他類に属しない電機
2
圧電効果,電歪または磁歪を用いる電機一般
02
直線運動を生じるもの,例.アクチュエータ;直線ポジショナ
H 電気
02
電力の発電,変換,配電
N
他類に属しない電機
2
圧電効果,電歪または磁歪を用いる電機一般
18
機械的入力から電気的出力を生じるもの,例.発電機(測定装置用G01)
出願人:
TDK株式会社 TDK CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区芝浦三丁目9番1号 3-9-1, Shibaura, Minato-ku, Tokyo 1080023, JP
国立大学法人東京工業大学 TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY [JP/JP]; 東京都目黒区大岡山2丁目12番1号 2-12-1, Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 1528550, JP
発明者:
政井 琢 MASAI Taku; JP
佐藤 祐介 SATO Yusuke; JP
森下 純平 MORISHITA Junpei; JP
舟窪 浩 FUNAKUBO Hiroshi; JP
清水 荘雄 SHIMIZU Takao; JP
根本 祐一 NEMOTO Yuichi; JP
代理人:
長谷川 芳樹 HASEGAWA Yoshiki; JP
黒木 義樹 KUROKI Yoshiki; JP
三上 敬史 MIKAMI Takafumi; JP
優先権情報:
2015-25482025.12.2015JP
発明の名称: (EN) PIEZOELECTRIC THIN FILM, PIEZOELECTRIC THIN FILM ELEMENT, PIEZOELECTRIC ACTUATOR, PIEZOELECTRIC SENSOR, HEAD ASSEMBLY, HEAD STACK ASSEMBLY, HARD DISK DRIVE, PRINTER HEAD, AND INKJET PRINTER DEVICE
(FR) FILM MINCE PIÉZOÉLECTRIQUE, ÉLÉMENT DE FILM MINCE PIÉZOÉLECTRIQUE, ACTIONNEUR PIÉZOÉLECTRIQUE, CAPTEUR PIÉZOÉLECTRIQUE, ENSEMBLE DE TÊTE, ENSEMBLE DE PILE DE TÊTE, LECTEUR DE DISQUE DUR, TÊTE D'IMPRIMANTE ET DISPOSITIF D'IMPRIMANTE À JET D'ENCRE
(JA) 圧電薄膜、圧電薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置
要約:
(EN) Provided is a piezoelectric thin film having a large d31 and g31. A piezoelectric thin film 3 is superposed on a single-crystal substrate 1. The piezoelectric thin film 3 includes a crystalline oxide represented by chemical formula 1. One plane orientation of the oxide selected from the group consisting of (100), (001), (110), (101), and (111) is preferentially oriented in the normal direction DN of the single-crystal substrate 1. (1): (BixKy)TiO3 [In chemical formula 1, 0.30 ≤ x ≤ 0.60, 0.30 ≤ y ≤ 0.60, and 0.60 ≤ x + y ≤ 1.10.]
(FR) L'invention concerne un film mince piézoélectrique présentant un d31 et un g31 importants. Un film 3 mince piézoélectrique est superposé sur un substrat monocristallin 1. Le film 3 mince piézoélectrique comprend un oxyde cristallin représenté par la formule chimique 1. Une orientation de plan de l'oxyde sélectionnée dans le groupe constitué par (100), (001), (110), (101) et (111) est de préférence orientée dans la direction normale DN du substrat monocristallin 1. (1): (BixKy)TiO3 [Dans la formule chimique 1, 0,30 ≤ x ≤ 0,60, 0,30 ≤ y ≤ 0,60 et 0,60 ≤ x + y ≤ 1,10.]
(JA) 31及びg31が大きい圧電薄膜が提供される。圧電薄膜3は、単結晶基板1に重なる。圧電薄膜3は、下記化学式1で表される結晶質の酸化物を含む。(100)、(001)、(110)、(101)及び(111)からなる群より選ばれる酸化物の面方位の一つが、単結晶基板1の法線方向Dにおいて優先的に配向している。 (Bi)TiO (1) [上記化学式1中、0.30≦x≦0.60, 0.30≦y≦0.60, 0.60≦x+y≦1.10。]
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)