WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2017051621) 荷電粒子線装置及びパターン測定装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2017/051621    国際出願番号:    PCT/JP2016/073035
国際公開日: 30.03.2017 国際出願日: 05.08.2016
IPC:
G01B 15/04 (2006.01), G01B 15/00 (2006.01), G01N 23/225 (2006.01), H01J 37/22 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
出願人: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP)
発明者: YOKOSUKA Toshiyuki; (JP).
LEE Chahn; (JP).
KAZUMI Hideyuki; (JP).
HASEGAWA Manabu; (JP)
代理人: TODA Yuji; (JP)
優先権情報:
2015-187591 25.09.2015 JP
発明の名称: (EN) CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE AND PATTERN MEASUREMENT DEVICE
(FR) DISPOSITIF À FAISCEAUX DE PARTICULES CHARGÉES ET DISPOSITIF DE MESURE DE MOTIF
(JA) 荷電粒子線装置及びパターン測定装置
要約: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a charged particle beam device capable of predicting the three-dimensional structure of a sample, without affecting the charge of the sample. The present invention provides a charged particle beam device characterized in that a first distance (dt1) between the peak and the bottom of a first signal waveform obtained on the basis of irradiation with a charged particle beam having a first landing energy, and a second distance (dt2) between the peak and the bottom of a second signal waveform obtained on the basis of irradiation with a charged particle beam having a second landing energy different to the first landing energy are obtained, and the distance between the peak and the bottom at a landing energy (zero for instance) different to the first and second landing energies is obtained on the basis of the extrapolation of the first distance and the second distance.
(FR)La présente invention concerne un dispositif à faisceaux de particules chargées apte à prédire la structure tridimensionnelle d'un échantillon, sans affecter la charge de l'échantillon. La présente invention concerne un dispositif à faisceaux de particules chargées caractérisé en ce qu'une première distance (dt1) entre la crête et le fond d'une première forme d'onde de signal, obtenue sur la base de l'irradiation avec un faisceau de particules chargées ayant une première énergie d'atterrissage, et une seconde distance (dt2) entre la crête et le fond d'une seconde forme d'onde de signal obtenue sur la base de l'irradiation avec un faisceau de particules chargées ayant une seconde énergie d'atterrissage différente de la première énergie d'atterrissage sont obtenues et la distance entre la crête et le fond au niveau d'une énergie d'atterrissage (zéro par exemple) différente des première et seconde énergies d'atterrissage est obtenue sur la base de l'extrapolation des première et seconde distances.
(JA)本発明は、試料の帯電に影響されることなく、試料の3次元構造を予測可能な荷電粒子線装置の提供を目的とする。本発明では、第1の到達エネルギーの荷電粒子ビームの照射に基づいて得られる第1の信号波形のピークとボトムとの間の第1の距離(dt1)と、前記第1の到達エネルギーとは異なる第2の到達エネルギーの荷電粒子ビームの照射に基づいて得られる第2の信号波形のピークとボトムとの間の第2の距離(dt2)を求め、当該第1の距離と第2の距離の外挿に基づいて、前記第1と第2の到達エネルギーとは異なる到達エネルギー(例えばゼロ)での前記ピークとボトム間の距離を求めることを特徴とする荷電粒子線装置を提案する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)