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1. (WO2017051606) 表示装置及び発光装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2017/051606    国際出願番号:    PCT/JP2016/072376
国際公開日: 30.03.2017 国際出願日: 29.07.2016
IPC:
H05B 33/12 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01)
出願人: SONY CORPORATION [JP/JP]; 1-7-1, Konan, Minato-ku, Tokyo 1080075 (JP)
発明者: ICHIKAWA Tatsuya; (JP).
TANAKA Taizo; (JP)
代理人: YAMAMOTO Takahisa; (JP).
YOSHII Masaaki; (JP)
優先権情報:
2015-186503 24.09.2015 JP
発明の名称: (EN) DISPLAY DEVICE AND LIGHT EMITTING DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'AFFICHAGE ET DISPOSITIF D'ÉMISSION DE LUMIÈRE
(JA) 表示装置及び発光装置
要約: front page image
(EN)A display device wherein light emitting elements are arranged in a two-dimensional matrix form, and wherein each light emitting element is configured of a first electrode 51 formed on a substrate, a multilayer structure 70 formed on the first electrode 51, and a second electrode 52 formed on the multilayer structure 70. The multilayer structure 70 is formed by sequentially laminating, in the following order from the first electrode side, at least a first organic layer 71 comprising a first light emitting layer, a charge generation layer 74 wherein a first layer 74A into which a first carrier is injected and a second layer 74B into which a second carrier is injected are laminated, and a second organic layer 72 comprising a second light emitting layer. With respect to a light emitting element that comprises a defect region 81, the charge generation layer 74 is in a high electrical resistance state or insulated state 74A' in the defect region 81, while being in a low electrical resistance state 74A" in a region 82 other than the defect region.
(FR)Cette invention concerne un dispositif d'affichage dans lequel des éléments d'émission de lumière sont agencés dans une former de matrice bidimensionnelle, chaque élément d'émission de lumière étant configuré à partir d'une première électrode (51) formée sur un substrat, d'une structure multicouches (70) formée sur la première électrode (51), et d'une seconde électrode (52) formée sur la structure multicouches (70). La structure multicouches (70) est formée par stratification séquentielle, dans l'ordre suivant à partir du côté de la première électrode, d'au moins une première couche organique (71) comprenant une première couche d'émission de lumière, d'une couche de génération de charge (74) dans laquelle une première couche (74A) dans laquelle est injecté un premier porteur et une seconde couche (74B) dans laquelle est injecté un second porteur sont stratifiées, et d'une seconde couche organique (72) comprenant une seconde couche d'émission de lumière. Par rapport à un élément d'émission de lumière qui comprend une région de défaut (81), la couche de génération de charge (74) est dans un état de résistance électrique élevée ou état isolé (74A') dans la région de défaut (81), tout en étant dans un état à faible résistance électrique (74A") dans une région (82) autre que la région de défaut.
(JA)発光素子が2次元マトリクス状に配列されて成る表示装置において、各発光素子は、基体上に形成された第1電極51、第1電極51上に形成された積層構造体70、及び、積層構造体70上に形成された第2電極52から成り、積層構造体70は、第1電極側から、少なくとも、第1発光層を含む第1有機層71、第1のキャリアを注入する第1層74A及び第2のキャリアを注入する第2層74Bが積層された電荷発生層74、並びに、第2発光層を含む第2有機層72が、この順に積層されて成り、欠陥領域81を含む発光素子では、電荷発生層74は、欠陥領域81において高電気抵抗状態又は絶縁状態74A'にあり、欠陥領域以外の領域82において低電気抵抗状態74A"にある。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)