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1. (WO2017051599) データ補正装置、描画装置、配線パターン形成システム、検査装置、データ補正方法および配線基板の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2017/051599    国際出願番号:    PCT/JP2016/071306
国際公開日: 30.03.2017 国際出願日: 20.07.2016
IPC:
H05K 3/06 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
出願人: SCREEN HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; Tenjinkita-machi 1-1, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585 (JP).
HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 1-9-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606 (JP)
発明者: KOMATSUZAKI, Takao; (JP).
YAMAMOTO, Teppei; (JP)
代理人: MATSUSAKA, Masahiro; (JP).
TANAKA, Tsutomu; (JP).
IDA, Masamichi; (JP)
優先権情報:
2015-187980 25.09.2015 JP
発明の名称: (EN) DATA CORRECTION DEVICE, WRITING DEVICE, WIRING PATTERN FORMING SYSTEM, INSPECTION DEVICE, DATA CORRECTION METHOD, AND WIRING BOARD MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE CORRECTION DE DONNÉES, DISPOSITIF D’ÉCRITURE, SYSTÈME DE FORMATION DE MOTIF DE CIRCUIT, DISPOSITIF D’INSPECTION, PROCÉDÉ DE CORRECTION DE DONNÉES, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CARTE DE CIRCUIT IMPRIMÉ
(JA) データ補正装置、描画装置、配線パターン形成システム、検査装置、データ補正方法および配線基板の製造方法
要約: front page image
(EN)Reference information is prepared for each of a plurality of mask gap widths (G), the reference information indicating the relationship between an upper surface gap width (GT) between upper surfaces of a pattern element pair (810) and a lower surface gap width (GB) between lower surfaces thereof, the pattern element pair (810) being formed on a film (8) on a board (9) by etching using a mask element pair (710), wherein the mask gap widths (G) are the widths between the individual mask elements in the mask element pair (710), said individual mask elements being formed adjacent to each other on the film (8). On a processed board that has been etched using a plurality of mask element pairs for which a plurality of mask gap widths have been set, a measured value of the upper surface gap width of each pattern element pair is acquired. By referring to reference information using the measured values, values of the lower surface gap widths at the plurality of mask gap widths are acquired, and film pattern design data are corrected on the basis of the values. In this way, correction of design data with reference to the lower surface of a film pattern can be easily implemented.
(FR)Selon l’invention, des informations de référence sont préparées pour chaque largeur d’une pluralité de largeurs (G) d’espace de masque, les informations de référence indiquant la relation entre une largeur d’espace de surface supérieure (GT) entre des surfaces supérieures d’une paire d’éléments de motifs (810) et une largeur d’espace de surface inférieure (GB) entre ses surfaces inférieures, la paire d’éléments de motifs (810) étant formée sur une pellicule (8) sur une carte (9) par gravure au moyen d’une paire d’éléments de masque (710), les largeurs d’espace de masque (G) étant les largeurs entre les éléments de masque individuels dans la paire d’éléments de masque (710), lesdits éléments de masque individuels étant formés de manière adjacente entre eux sur la pellicule (8). Sur une carte traitée qui a été gravée au moyen d’une pluralité de paires d’éléments de masque pour lesquels une pluralité de largeurs d’espaces de masque ont été définis, une valeur mesurée de la largeur d’espace de surface supérieure de chaque paire d’éléments de motif est acquise. En consultant les informations de référence au moyen des valeurs mesurées, des valeurs des largeurs d’espace de surface inférieure au niveau de la pluralité de largeurs d’espace de masque sont acquises, et des données de dessin de motif de pellicule sont corrigées sur la base des valeurs. De cette manière, la correction de données de dessin en référence à la surface inférieure d’un motif de pellicule peut être facilement mise en œuvre.
(JA)基板(9)の膜(8)上に互いに隣接して形成されるマスク要素ペア(710)間の幅をマスクギャップ幅(G)として、マスク要素ペアを用いてエッチングにより膜に形成されるパターン要素ペア(810)の上面間の上面ギャップ幅(GT)と、下面間の下面ギャップ幅(GB)との関係を示す参照情報が、複数のマスクギャップ幅のそれぞれに対して準備される。複数のマスクギャップ幅が設定された複数のマスク要素ペアを用いてエッチングが行われた処理済み基板において、各パターン要素ペアの上面ギャップ幅の測定値が取得される。当該測定値を用いて参照情報を参照することにより、複数のマスクギャップ幅における下面ギャップ幅の値が取得され、当該値に基づいて膜のパターンの設計データが補正される。これにより、膜のパターンの下面を基準とする設計データの補正が容易に実現される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)