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1. (WO2017046967) 情報保存装置および情報読出装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2017/046967 国際出願番号: PCT/JP2015/077000
国際公開日: 23.03.2017 国際出願日: 15.09.2015
IPC:
G11B 7/0065 (2006.01) ,G11B 7/0045 (2006.01) ,G11B 7/135 (2012.01)
[IPC code unknown for G11B 7/065][IPC code unknown for G11B 7/045]
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
7
光学的手段による記録または再生,例.光ビームの照射による記録,低パワー光ビームを用いる再生;そのための記録担体
12
ヘッド,例.光ビームスポットの形成または光ビームの変調
135
光源から記録担体にまたは記録担体から光検出器に光ビームを案内する手段
出願人:
大日本印刷株式会社 DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 1-1, Ichigaya-Kaga-cho 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1628001, JP
発明者:
中田 尚子 NAKATA, Naoko; JP
有塚 祐樹 ARITSUKA, Yuki; JP
代理人:
永井 浩之 NAGAI, Hiroshi; 東京都千代田区丸の内1丁目6番6号 日本生命丸の内ビル 協和特許法律事務所  Kyowa Patent & Law Office, Nippon Life Marunouchi Building, Marunouchi 1-6-6, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) INFORMATION STORAGE DEVICE AND INFORMATION READING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE STOCKAGE D'INFORMATIONS ET DISPOSITIF DE LECTURE D'INFORMATIONS
(JA) 情報保存装置および情報読出装置
要約:
(EN) The present invention makes it possible to perform highly integrated recording of information and read the information in a universal method while maintaining long-term durability. Digital data (D) to be stored is divided by a prescribed bit length u to create a plurality of unit data (U1 to U4). The bits constituting the unit data (U1) are arranged in a two-dimensional matrix to create a unit bit matrix (B(U1)), which is converted to a geometrical pattern to thereby create a unit bit graphic pattern (P(U1)). Further, alignment marks (Q) are arranged at four corners to create a unit recording graphic pattern (R(U1)). A drawing pattern (P(E)) is created as an assembly of the unit recording graphic patterns (R(U1) to R(U4)), and is provided to an electron beam lithography system as drawing data (E) whereby a pattern is drawn in a resist layer on a glass substrate. The resist layer is developed and the glass substrate is etched, and thus the digital data (D) is recorded on the substrate as a physically structured pattern.
(FR) La présente invention permet de réaliser l'enregistrement hautement intégré d'informations et de lire les informations dans un procédé universel tout en maintenant une durabilité à long terme. Des données numériques (D) à stocker sont divisées par une longueur de bit prescrite u pour créer une pluralité de données d'unité (U1 à U4). Les bits constituant les données d'unité (U1) sont disposés en une matrice en deux dimensions pour créer une matrice de bits d'unité (B(U1)), qui est convertie en un motif géométrique de façon à créer un motif graphique de bit d'unité (P(U1)). En outre, des repères d'alignement (Q) sont disposés aux quatre coins pour créer un motif graphique d'enregistrement d'unité (R(U1)). Un motif de dessin (P(E)) est créé sous la forme d'un ensemble des motifs graphiques d'enregistrement d'unité (R(U1) à R(U4)), et est fourni à un système de lithographie par faisceau d'électrons sous forme de données de dessin (E) avec lesquelles un motif est dessiné dans une couche de réserve sur un substrat de verre. La couche de réserve est développée et le substrat de verre est gravé et, de ce fait, les données numériques (D) sont enregistrées sur le substrat sous forme de motif physiquement structuré.
(JA) 長期的な耐久性を維持しつつ、高集積度での情報記録を可能とし、普遍的な方法で情報を読み出せるようにする。保存対象となるデジタルデータ(D)を所定のビット長uで分割して複数の単位データ(U1〜U4)を生成する。単位データ(U1)を構成するビットを二次元行列状に配置して単位ビット行列(B(U1))を生成し、これを幾何学的なパターンに変換して単位ビット図形パターン(P(U1))を生成する。更に、4隅に位置合わせマーク(Q)を配置して、単位記録用図形パターン(R(U1))を生成する。単位記録用図形パターン(R(U1)〜R(U4))の集合体として描画用パターン(P(E))を生成し、これを描画データ(E)として電子線描画装置に与え、ガラス基板上のレジスト層にパターンを描画する。レジスト層の現像およびガラス基板へのエッチングを行い、物理的構造パターンとしてデジタルデータ(D)を基板上に記録する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)