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1. (WO2017043428) 感光性樹脂組成物、平坦化膜、ブラックマトリックス、カラーフィルター、及び、表示素子
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国際公開番号: WO/2017/043428 国際出願番号: PCT/JP2016/075920
国際公開日: 16.03.2017 国際出願日: 05.09.2016
IPC:
G03F 7/033 (2006.01) ,G02B 5/20 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/031 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
032
結合剤をもつもの
033
結合剤が炭素-炭素不飽和結合を含む反応のみによって得られた重合体であるもの,例.ビニル重合体
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
20
フィルター
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
028
増感物質をもつもの,例.光重合開始剤
031
グループ7/029に包含されない有機化合物
出願人:
積水化学工業株式会社 SEKISUI CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市北区西天満2丁目4番4号 4-4, Nishitemma 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300047, JP
発明者:
末▲崎▼ 穣 SUEZAKI, Minoru; JP
代理人:
特許業務法人 安富国際特許事務所 YASUTOMI & ASSOCIATES; 大阪府大阪市淀川区宮原3丁目5番36号 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003, JP
優先権情報:
2015-17885210.09.2015JP
2015-17885310.09.2015JP
2015-17993011.09.2015JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PLANARIZATION FILM, BLACK MATRIX, COLOR FILTER AND DISPLAY ELEMENT
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, FILM DE PLANARISATION, MATRICE NOIRE, FILTRE COLORÉ ET ÉLÉMENT D'AFFICHAGE
(JA) 感光性樹脂組成物、平坦化膜、ブラックマトリックス、カラーフィルター、及び、表示素子
要約:
(EN) A purpose of the present invention is to provide a photosensitive resin composition which is capable of reducing burden on the environment. Another purpose of the present invention is to provide a planarization film, a black matrix, a color filter and a display element, each of which is obtained using this photosensitive resin composition. The present invention is a photosensitive resin composition which contains a water-soluble and alkali-soluble polymer compound, a radically polymerizable compound, a photopolymerization initiator and an aqueous solvent.
(FR) La présente invention concerne une composition de résine photosensible qui est susceptible de réduire les effets néfastes sur l'environnement. Elle concerne également un film de planarisation, une matrice noire, un filtre coloré et un élément d'affichage, chacun d'eux étant obtenu à l'aide de cette composition de résine photosensible. La composition de résine photosensible selon la présente invention contient un composé polymère soluble dans l'eau et soluble en milieu alcalin, un composé polymérisable par voie radicalaire, un initiateur de photopolymérisation et un solvant aqueux.
(JA) 本発明は、環境への負荷を低減することができる感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。また、本発明は、該感光性樹脂組成物を用いてなる平坦化膜、ブラックマトリックス、カラーフィルター、及び、表示素子を提供することを目的とする。 本発明は、水溶性かつアルカリ可溶性の高分子化合物と、ラジカル重合性化合物と、光重合開始剤と、水系溶媒とを含有する感光性樹脂組成物である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)