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1. (WO2017038346) 水素ガス回収システムおよび水素ガスの分離回収方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2017/038346 国際出願番号: PCT/JP2016/072591
国際公開日: 09.03.2017 国際出願日: 02.08.2016
IPC:
C01B 3/56 (2006.01) ,B01J 20/18 (2006.01) ,B01J 20/20 (2006.01) ,B01J 20/34 (2006.01) ,C01B 33/035 (2006.01) ,C01B 39/44 (2006.01) ,B01D 53/68 (2006.01) ,B01D 53/72 (2006.01) ,B01D 53/75 (2006.01) ,B01D 53/78 (2006.01) ,B01D 53/82 (2006.01) ,B01D 53/96 (2006.01)
出願人: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.[JP/JP]; 6-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004, JP
発明者: ISHIDA, Masahiko; JP
NETSU, Shigeyoshi; JP
SAITO, Hiroshi; JP
TANAKA, Shuji; JP
代理人: OHNO, Seiji; JP
KATAYAMA, Ken-ichi; JP
優先権情報:
2015-16923128.08.2015JP
発明の名称: (EN) HYDROGEN GAS RECOVERY SYSTEM AND HYDROGEN GAS SEPARATION AND RECOVERY METHOD
(FR) SYSTÈME DE RÉCUPÉRATION D’HYDROGÈNE GAZEUX ET PROCÉDÉ DE SÉPARATION ET DE RÉCUPÉRATION D’HYDROGÈNE GAZEUX
(JA) 水素ガス回収システムおよび水素ガスの分離回収方法
要約: front page image
(EN) This hydrogen gas recovery system includes: a condensing and separating device (A) that condenses and separates chlorosilanes from reaction exhaust gases, which includes hydrogen, from a polycrystalline silicon manufacturing step; a compressing device (B) that compresses the reaction exhaust gases including hydrogen; an absorbing device (C) that contacts the reaction exhaust gases including hydrogen with an absorbing liquid to absorb and separate hydrogen chloride; a first adsorbing device (D) that includes an adsorption tower which is filled with activated carbon for adsorbing and removing methane, hydrogen chloride, and a part of the chlorosilanes that are included in the reaction exhaust gases including hydrogen; a second adsorbing device (E) that includes an adsorption tower which is filled with synthetic zeolite that adsorbs and removes the methane included in the reaction exhaust gases including hydrogen; and a gas line (F) that recovers purified hydrogen gas in which concentration of methane has been reduced.
(FR) La présente invention concerne un système de récupération d’hydrogène gazeux comprenant : un dispositif de condensation et de séparation (A) qui condense et sépare les chlorosilanes des gaz d’échappement réactionnels comprenant de l’hydrogène, provenant d’une étape de fabrication de silicium polycristallin ; un dispositif de compression (B) qui comprime les gaz d’échappement réactionnels comprenant l’hydrogène ; un dispositif d’absorption (C) qui met en contact les gaz d’échappement réactionnels comprenant de l’hydrogène avec un liquide absorbant pour absorber et séparer le chlorure d’hydrogène ; un premier dispositif d’adsorption (D) qui comprend une colonne d’adsorption qui est remplie du carbone actif pour l’adsorption et l’élimination du méthane, du chlorure d’hydrogène, et d’une partie des chlorosilanes qui sont compris dans les gaz d’échappement réactionnels comprenant l’hydrogène ; un second dispositif d’adsorption (E) qui comprend une colonne d’adsorption qui est remplie de zéolite synthétique qui adsorbe et retire le méthane compris dans les gaz d’échappement réactionnels comprenant l’hydrogène ; et une conduite de gaz (F) qui récupère l’hydrogène gazeux purifié dans lequel la concentration du méthane a été réduite.
(JA) 本発明の水素ガス回収システムは、多結晶シリコン製造工程からの、水素を含む反応排ガスからクロロシラン類を凝縮分離する凝縮分離装置(A)と、水素を含む反応排ガスを圧縮する圧縮装置(B)と、水素を含む反応排ガスを吸収液と接触させて塩化水素を吸収分離する吸収装置(C)と、水素を含む反応排ガスに含まれる、メタン、塩化水素、およびクロロシラン類の一部を吸着除去するための活性炭を充填した吸着塔からなる第1の吸着装置(D)と、水素を含む反応排ガスに含まれるメタンを吸着除去する合成ゼオライトを充填した吸着塔からなる第2の吸着装置(E)と、メタン濃度を低減させた精製水素ガスを回収するガスライン(F)により構成される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)