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1. (WO2017036729) METHOD FOR FABRICATING HIGH ASPECT RATIO GRATINGS FOR PHASE CONTRAST IMAGING
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2017/036729 国際出願番号: PCT/EP2016/068658
国際公開日: 09.03.2017 国際出願日: 04.08.2016
IPC:
G02B 5/18 (2006.01) ,B82Y 10/00 (2011.01) ,B82Y 40/00 (2011.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
18
回折格子
B 処理操作;運輸
82
ナノテクノロジー
Y
ナノ構造物の特定の使用または応用;ナノ構造物の測定または分析;ナノ構造物の製造または処理
10
情報処理,情報記憶または情報伝送のためのナノテクノロジー,例.量子コンピューティングまたは単電子論理回路
B 処理操作;運輸
82
ナノテクノロジー
Y
ナノ構造物の特定の使用または応用;ナノ構造物の測定または分析;ナノ構造物の製造または処理
40
ナノ構造物の製造または処理
出願人:
PAUL SCHERRER INSTITUT [CH/CH]; 5232 Villigen, CH
発明者:
JEFIMOVS, Konstantins; CH
KAGIAS, Matias; CH
ROMANO, Lucia; IT
STAMPANONI, Marco; CH
代理人:
FISCHER, Michael; DE
優先権情報:
15183242.501.09.2015EP
発明の名称: (EN) METHOD FOR FABRICATING HIGH ASPECT RATIO GRATINGS FOR PHASE CONTRAST IMAGING
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE RÉSEAUX À RAPPORT D'ASPECT ÉLEVÉ POUR IMAGERIE À CONTRASTE DE PHASE
要約:
(EN) A method with several options to manufacture high aspect ratio structures is proposed. The method is based on fabrication of high aspect ratio recess structure in silicon by dry or chemical etching and then filling the high aspect ratio recess with metal by using electroplating, atomic layer deposition, wafer bonding, metal casting or combination of these techniques. The gratings can be used for x-ray or neutron imaging, as well as for space applications.
(FR) La présente invention a trait à un procédé ayant plusieurs options pour la fabrication de structures à rapport d'aspect élevé. Le procédé est basé sur la fabrication d'une structure évidée à rapport d'aspect élevé dans du silicium grâce à une gravure sèche ou chimique, puis grâce au remplissage de l'évidement à rapport d'aspect élevé à l'aide d'un métal par dépôt électrolytique, par dépôt de couche atomique, par connexion sur plaquette, par coulée de métal ou par association de ces techniques. Les réseaux peuvent être utilisés dans l'imagerie par rayons X ou l'imagerie neutronique, ainsi que dans des applications spatiales.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 英語 (EN)
国際出願言語: 英語 (EN)