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1. (WO2017033984) 感光性組成物、画像形成方法、膜形成方法、樹脂、画像、及び膜
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2017/033984 国際出願番号: PCT/JP2016/074706
国際公開日: 02.03.2017 国際出願日: 24.08.2016
IPC:
C08F 265/06 (2006.01) ,B41J 2/01 (2006.01) ,B41M 5/00 (2006.01) ,C08F 2/44 (2006.01) ,C08F 220/34 (2006.01) ,C09D 11/30 (2014.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
265
グループ20/00で定義された不飽和モノカルボン酸またはその誘導体の重合体への重合によって得られる高分子化合物
04
エステルの重合体への重合によるもの
06
アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルのそれらの重合体への重合
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
J
タイプライタ;選択的プリンティング機構,すなわち版以外の手段でプリンティングする機構;誤植の修正
2
設計されるプリンティングまたはマーキング方法に特徴があるタイプライタまたは選択的プリンティング機構
005
液体または粒子を選択的にプリンティング材料に接触させることに特徴があるもの
01
インクジェット
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
M
印刷,複製,マーキングまたは複写方法;カラー印刷
5
複製またはマーキング方法;それに使用するシート材料
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
2
重合方法
44
配合成分,例.可塑剤,染料,充填剤,の存在下における重合
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10
エステル
34
窒素を含有するエステル
[IPC code unknown for C09D 11/30]
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
佐藤 憲晃 SATO, Noriaki; JP
鈴木 昭太 SUZUKI, Shota; JP
澤村 泰弘 SAWAMURA, Yasuhiro; JP
スレーター ショーン SLATER, Sean; JP
代理人:
中島 淳 NAKAJIMA, Jun; JP
加藤 和詳 KATO, Kazuyoshi; JP
福田 浩志 FUKUDA, Koji; JP
優先権情報:
2015-16797427.08.2015JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, IMAGE FORMING METHOD, FILM FORMING METHOD, RESIN, IMAGE AND FILM
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE FORMATION D'IMAGE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM, RÉSINE, IMAGE ET FILM
(JA) 感光性組成物、画像形成方法、膜形成方法、樹脂、画像、及び膜
要約:
(EN) A photosensitive composition which contains a radically polymerizable monomer and a resin containing a structural unit A represented by formula (1) or formula (2) and a structural unit B represented by formula (3), formula (4) or formula (5); an image forming method; a film forming method; a resin; an image; and a film. In the formulae, each of R11, R21, R31, R41 and R51 represents H or a hydrocarbon group; each of R12-R14 and R22-R24 represents a hydrocarbon group, H, an OH group or the like; each of R42, R43, R52 and R53 represents H, a hydrocarbon group or the like; each of L1-L3 represents a single bond or a linking group; X1 represents -O- or -NR15-; X2 represents -O- or -NR25-; each of R15 and R25 represents H or a hydrocarbon group; and Cy1 represents a hydrocarbon group containing a cyclic structure that may contain O.
(FR) L'invention concerne une composition photosensible qui contient un monomère polymérisable par voie radicalaire et une résine contenant un motif structural A représenté par la formule (1) ou la formule (2) et un motif structural B représenté par la formule (3), la formule (4) ou la formule (5); un procédé de formation d'image; un procédé de formation de film; une résine; une image; et un film. Dans les formules, chacun parmi R11, R21, R31, R41 et R51 représente H ou un groupe hydrocarboné; chacun parmi R12-R14 et R22-R24 représente un groupe hydrocarboné, H, un groupe OH ou analogue; chacun parmi R42, R43, R52 et R53 représente H, un groupe hydrocarboné ou analogue; chacun parmi L1-L3 représente une simple liaison ou un groupe de liaison; X1 représente -O- ou -NR15-; X2 représente -O- ou -NR25-; chacun parmi R15 et R25 représente H ou un groupe hydrocarboné; et Cy1 représente un groupe hydrocarboné contenant une structure cyclique qui peut contenir O.
(JA) 式(1)又は式(2)で表される構造単位A、及び、式(3)、式(4)又は式(5)で表される構造単位Bを含む樹脂と、ラジカル重合性モノマーと、を含有する感光性組成物、並びに、画像形成方法、膜形成方法、樹脂、画像、及び膜。R11、R21、R31、R41、及びR51はH又は炭化水素基を、R12~R14及びR22~R24は炭化水素基、H又はOH基等を、R42、R43、R52、及びR53はH又は炭化水素基等を、L~Lは単結合又は連結基を、Xは-O-又は-NR15-を、Xは-O-又は-NR25-を、R15及びR25はH又は炭化水素基を、CyはOを含んでもよい環状構造を含む炭化水素基をそれぞれ表す。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
AU2016311962JPWO2017033984IN201847006871CN107922553US20180162979EP3342792