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1. (WO2017033970) デバイスの製造方法及び組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2017/033970 国際出願番号: PCT/JP2016/074665
国際公開日: 02.03.2017 国際出願日: 24.08.2016
IPC:
G02B 5/20 (2006.01) ,B29C 59/02 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
20
フィルター
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
C
プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修
59
表面成形,例.エンボス;そのための装置
02
機械的手段,例.プレス,によるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
出願人:
東洋合成工業株式会社 TOYO GOSEI CO., LTD. [JP/JP]; 千葉県市川市上妙典1603番地 1603, Kamimyoden, Ichikawa-shi, Chiba 2720012, JP
発明者:
大幸 武司 OSAKI, Takeshi; JP
代理人:
栗原浩之 KURIHARA, Hiroyuki; JP
山▲崎▼雄一郎 YAMAZAKI, Yuichiro; JP
優先権情報:
2015-16520524.08.2015JP
発明の名称: (EN) DEVICE MANUFACTURING METHOD AND COMPOSITION
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ET COMPOSITION
(JA) デバイスの製造方法及び組成物
要約:
(EN) Provided is a device manufacturing method which includes the following: a step for forming a first film on a substrate by using a composition which includes a polymerizable monomer and an oxidation inhibitor; and a step for forming a second film by curing the first film in a state where at least a portion of a mold having an uneven pattern is brought into contact with the first film, or after at least a portion of the mold was brought into contact with the first film. The oxidation inhibitor is a hindered amine compound and/or a hindered phenol compound having a molecular weight of at least 700. The composition satisfies the relationship (t0(T)-tx(T))/t0(T)×100≤13.0. The manufacturing method is for a device that includes the substrate and the second film disposed on the substrate. (In the formula, t0(T) is the height of a protrusion of an unevenness of a cured film having such unevenness, the unevenness being obtained as a result of the following: after a coating film is formed using the composition, the coating film is brought into contact with an unevenness of the mold, the unevenness being such that the depth of recesses is 3μm and the line width thereof is 5μm, and in that contact state, the coating film is cured. tx(T) is the height of the protrusion obtained after the cured film is heated from 25ºC to 260ºC over five minutes, is subsequently maintained at 260ºC for five minutes, and then cooled to 25ºC over 30 minutes.)
(FR) L’invention concerne un procédé de fabrication de dispositif comprenant : une étape pour former un premier film sur un substrat à l’aide d’une composition qui contient un monomère polymérisable et un inhibiteur d’oxydation ; et une étape pour former un deuxième film en durcissant le premier film dans un état où au moins une partie d’un moule ayant un motif irrégulier est amené en contact avec le premier film, ou après qu’au moins une partie du moule a été amenée en contact avec le premier film. L’inhibiteur d’oxydation est un composé amine encombré et/ou un composé phénol encombré ayant un poids moléculaire d’au moins 700. La composition satisfait à la relation (t0(T)-tx(T))/t0(T) × 100 ≤ 13,0. Le procédé de fabrication est destiné à un dispositif qui comprend le substrat et le deuxième film disposé sur le substrat. (Dans la formule, t0(T) est la hauteur d’une saillie d’une irrégularité d’un film durci présentant cette irrégularité, l’irrégularité étant obtenue en tant que résultat de ce qui suit : après qu’un film de revêtement est formé à l’aide de la composition, le film de revêtement est amené en contact avec une irrégularité du moule, l’irrégularité étant telle que la profondeur des renfoncements soit de 3 µm et que leur largeur de ligne soit de 5 μm, puis, dans cet état de contact, le film de revêtement est durci. tx(T) est la hauteur de la saillie obtenue après chauffage du film durci de 25 °C à 260 °C sur une durée de cinq minutes, suivi d’un maintien à 260 °C pendant cinq minutes, puis d’un refroidissement jusqu’à 25 °C sur 30 minutes.)
(JA) 重合性単量体と、酸化防止剤と、を含む組成物を用いて基材上に第1の膜を形成する工程と、凹凸パターンを有するモールドの少なくとも一部を前記第1の膜に接触させた状態で又は前記モールドの少なくとも一部を前記第1の膜に接触させた後に前記第1の膜を硬化させて第2の膜を形成する工程と、を含み、 前記酸化防止剤が、ヒンダードアミン化合物及び分子量700以上のヒンダードフェノール化合物の少なくともいずれかであり、 前記組成物が(t0(T)-tx(T))/t0(T)×100≦13.0の関係を満たすものである、前記基材と該基材上に配置される前記第2の膜とを有するデバイスの製造方法。 (前記式中、t0(T)は、前記組成物により塗膜を形成した後、前記塗膜を凹部の深さが3μm及び凹部の線幅が5μmである凹凸部を有するモールドの前記凹凸部に接触させた状態で前記塗膜を硬化させて得た、凹凸部を有する硬化膜の前記凹凸部の凸部の高さであり、 tx(T)は、前記硬化膜を25℃から260℃まで5分かけて昇温した後に260℃で5分間保持し、30分かけて25℃まで冷却した後の前記凸部の高さである。)
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
CN107924006US20180231887