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1. (WO2017033915) エッチング液組成物及びエッチング方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2017/033915    国際出願番号:    PCT/JP2016/074475
国際公開日: 02.03.2017 国際出願日: 23.08.2016
IPC:
H01L 21/308 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01), H01L 21/3205 (2006.01), H01L 21/3213 (2006.01), H01L 21/768 (2006.01), H01L 23/532 (2006.01)
出願人: ADEKA CORPORATION [JP/JP]; 2-35, Higashiogu 7-chome, Arakawa-ku, Tokyo 1168554 (JP)
発明者: ISHIZAKI, Junro; (JP).
OMIYA, Daisuke; (JP)
代理人: SOGA, Michiharu; (JP).
KAJINAMI, Jun; (JP).
OHYA, Kazuhiro; (JP)
優先権情報:
2015-166964 26.08.2015 JP
発明の名称: (EN) ETCHING LIQUID COMPOSITION AND ETCHING METHOD
(FR) COMPOSITION DE LIQUIDE DE GRAVURE ET PROCÉDÉ DE GRAVURE
(JA) エッチング液組成物及びエッチング方法
要約: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide: an etching liquid composition which allows for simultaneous etching of a titanium-based layer and a copper-based layer of a material, to be subjected to etching, having a laminate including the titanium-based layer and the copper-based layer, and which is capable of creating a fine line of a desired cross-sectional shape even when used continuously; and an etching method comprising using the etching liquid. To accomplish this purpose, the present invention provides: an etching liquid composition containing (A) 0.1-15.0 mass% of hydrogen peroxide, (B) 0.01-1.00 mass% of a fluoride ion source, (C) an organic sulfonic acid compound represented by general formula (I) or a salt thereof in an amount of 0.1-20.0 mass% in organic sulfonic acid equivalent, (D) 0.01-5.00 mass% of at least one type of compound selected from among azole compounds and compounds having a structure that has a 6-member heterocycle including at least one nitrogen atom and three double bonds, and (E) water; and an etching method comprising using the etching liquid composition. (In the formula, R represents an alkyl group having 1-4 carbon atoms, a hydroxyalkyl group having 1-4 carbon atoms, an aryl group having 6-10 carbon atoms, or a hydroxyaryl group having 6-10 carbon atoms.)
(FR)L'objet de la présente invention est de fournir : une composition de liquide de gravure qui permet une gravure simultanée d'une couche à base de titane et d'une couche à base de cuivre d'un matériau, devant être soumis à une gravure, ayant un stratifié comprenant la couche à base de titane et la couche à base de cuivre, et qui est capable de créer une ligne fine d'une forme de section transversale souhaitée, même lorsqu'elle est utilisée en continu ; et un procédé de gravure comprenant l'utilisation du liquide de gravure. Pour atteindre cet objet, la présente invention concerne : une composition de liquide de gravure contenant (A) de 0,1 à 15,0 % en masse de peroxyde d'hydrogène, (B) de 0,01 à 1,00 % en masse d'une source d'ions fluorure, (C) un composé d'acide sulfonique organique représenté par la formule générale (I) ou un sel de celui-ci à hauteur de 0,1 à 20,0 % en masse en équivalent d'acide sulfonique organique, (D) de 0,01 à 5,00 % en masse d'au moins un type de composé choisi parmi des composés d'azole et des composés ayant une structure qui a un hétérocycle à six membres comprenant au moins un atome d'azote et trois doubles liaisons, et (E) de l'eau ; et un procédé de gravure comprenant l'utilisation de la composition de liquide de gravure. (Dans la formule, R représente un groupe alkyle ayant de 1 à 4 atomes de carbone, un groupe hydroxyalkyle ayant de 1 à 4 atomes de carbone, un groupe aryle ayant de 6 à 10 atomes de carbone, ou un groupe hydroxyaryle ayant de 6 à 10 atomes de carbone.)
(JA)本発明は、チタン系層及び銅系層を含む積層体を有する被エッチング材のチタン系層及び銅係層を一括でエッチングすることが可能で、連続的に用いても、所望の断面形状の細線を得ることができるエッチング液組成物及び当該エッチング液を用いることを含むエッチング方法を提供することを目的とする。 上記目的を達成するため、本発明は、(A)過酸化水素0.1~15質量%;(B)フッ化物イオン供給源0.01~1質量%;(C)下記一般式(I)で表される有機スルホン酸化合物またはその塩を、有機スルホン酸換算で0.1~20質量%;(D)アゾール系化合物及び窒素原子を1つ以上含み3つの2重結合を有する複素6員環を構造中に有する化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物0.01~5質量%及び(E)水を含むエッチング液組成物及び当該エッチング液組成物を使用することを含むエッチング方法を提供する。(式中、Rは炭素原子数1~4のアルキル基、炭素原子数1~4のヒドロキシアルキル基、炭素原子数6~10のアリール基、炭素原子数6~10のヒドロキシアリール基を表す。)
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)