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1. (WO2017033868) 感光性樹脂組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2017/033868 国際出願番号: PCT/JP2016/074276
国際公開日: 02.03.2017 国際出願日: 19.08.2016
IPC:
G03F 7/033 (2006.01) ,C08F 2/50 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/40 (2006.01) ,H05K 3/06 (2006.01) ,H05K 3/18 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
032
結合剤をもつもの
033
結合剤が炭素-炭素不飽和結合を含む反応のみによって得られた重合体であるもの,例.ビニル重合体
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
2
重合方法
46
波動エネルギーまたは粒子線の照射によって開始される重合
48
紫外線または可視光線によるもの
50
増感剤を用いるもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
40
画像様除去後の処理,例.加熱
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
3
印刷回路を製造するための装置または方法
02
導電性物質が絶縁支持部材の表面に施されその後電流の伝導や遮へいのために使わない部分が表面から取り除かれるもの
06
導電性物質が化学的にまたは電気分解により取り除かれるもの,例.ホトエッチング法
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
3
印刷回路を製造するための装置または方法
10
導電性物質が希望する導電模様を形成するように絶縁支持部材に施されるもの
18
導電性物質を付着するのに沈でん技術を用いるもの
出願人:
旭化成株式会社 ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 東京都千代田区神田神保町一丁目105番地 1-105, Kanda Jinbocho, Chiyoda-ku, Tokyo 1018101, JP
発明者:
吉田 真典 YOSHIDA, Masanori; JP
国松 真一 KUNIMATSU, Shinichi; JP
西本 秀昭 NISHIMOTO, Hideaki; JP
代理人:
青木 篤 AOKI, Atsushi; JP
石田 敬 ISHIDA, Takashi; JP
古賀 哲次 KOGA, Tetsuji; JP
中村 和広 NAKAMURA, Kazuhiro; JP
勝又 秀夫 KATSUMATA, Hideo; JP
三間 俊介 MIMA, Shunsuke; JP
齋藤 都子 SAITO, Miyako; JP
優先権情報:
2015-16583625.08.2015JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性樹脂組成物
要約:
(EN) This photosensitive resin composition contains an alkali-soluble polymer (A), a compound (B) having an ethylenic double bond, and a photopolymerization initiator (C), wherein the alkali-soluble polymer (A) has a glass transition temperature (Tgtotal) determined by mathematical formula (I) (in mathematical formula (I), Wi represents the mass of each comonomer forming the alkali-soluble polymer, Tgi represents the glass transition temperature when each of the comonomers of the alkali-soluble polymer is a homopolymer, Wtotal represents the total mass of the alkali-soluble polymer, and n represents the total number of types of the comonomers forming the alkali-soluble polymer) not higher than 100°C, and the compound (B) having an ethylenic double bond contains a compound that has an ethylenic double bond and a triazine-trione structure.
(FR) La présente invention a trait à une composition de résine photosensible qui contient un polymère soluble dans les alcalis (A), un composé (B) ayant une double liaison éthylénique, et un initiateur de photopolymérisation (C), le polymère soluble dans les alcalis (A) ayant une température de transition vitreuse (Tgtotal) déterminée par la formule mathématique (I) (dans la formule mathématique (I), Wi représente la masse de chaque comonomère formant le polymère soluble dans les alcalis, Tgi représente la température de transition vitreuse lorsque chacun des comonomères du polymère soluble dans les alcalis est un homopolymère, Wtotal représente la masse totale du polymère soluble dans les alcalis, et n représente le nombre total de types des comonomères formant le polymère soluble dans les alcalis) qui n'est pas supérieure à 100 °C, et le composé (B) qui a une double liaison éthylénique contenant un composé qui a une double liaison éthylénique et une structure de triazinetrione.
(JA) (A)アルカリ可溶性高分子、(B)エチレン性二重結合を有する化合物、及び(C)光重合開始剤を含有し、(A)アルカリ可溶性高分子は、下記数式(I):{数式(I)中、Wはアルカリ可溶性高分子を構成するコモノマーそれぞれの質量であり、Tgはアルカリ可溶性高分子を構成するコモノマーのそれぞれがホモポリマーであった場合のガラス転移温度であり、Wtotalはアルカリ可溶性高分子の合計質量であり、そしてnは該アルカリ可溶性高分子を構成するコモノマーの種類の数である。}によって求めたガラス転移温度(Tgtotal)が100℃以下であり、(B)エチレン性二重結合を有する化合物は、エチレン性二重結合とトリアジン-トリオン構造とを有する化合物を含有する、感光性樹脂組成物。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
KR1020180019678JPWO2017033868CN107924128