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1. (WO2017033835) ネガ型感光性樹脂組成物、樹脂硬化膜、隔壁ならびに光学素子およびその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2017/033835 国際出願番号: PCT/JP2016/074150
国際公開日: 02.03.2017 国際出願日: 18.08.2016
IPC:
G03F 7/031 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01) ,H05B 33/12 (2006.01) ,H05B 33/22 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
028
増感物質をもつもの,例.光重合開始剤
031
グループ7/029に包含されない有機化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
12
実質的に2次元放射面をもつ光源
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
12
実質的に2次元放射面をもつ光源
22
補助的な誘電体または反射層の配置あるいは化学的または物理的組成によって特徴づけられたもの
出願人:
旭硝子株式会社 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目5番1号 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405, JP
発明者:
川島 正行 KAWASHIMA Masayuki; JP
代理人:
特許業務法人サクラ国際特許事務所 SAKURA PATENT OFFICE, P.C.; 東京都千代田区内神田一丁目18番14号 ヨシザワビル6階 6F Yoshizawa Bldg., 18-14, Uchikanda 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010047, JP
優先権情報:
2015-16378721.08.2015JP
発明の名称: (EN) NEGATIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED RESIN FILM, PARTITION, OPTICAL ELEMENT, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DE TYPE NÉGATIF, FILM DE RÉSINE DURCI, PARTITION, ÉLÉMENT OPTIQUE, ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) ネガ型感光性樹脂組成物、樹脂硬化膜、隔壁ならびに光学素子およびその製造方法
要約:
(EN) Provided are: a negative-type photosensitive resin composition that is for an optical element, that has good ink repellency, and that makes it possible to reduce residue in an opening; a cured resin film that is for an optical element and that has good ink repellency; a partition that is for an optical element and that makes it possible to form a highly precise pattern; and an optical element comprising the partition. The negative-type photosensitive resin composition contains a photocurable alkali-soluble resin or alkali-soluble monomer, a photopolymerization initiator comprising an acridine compound, and an ink repellent. The present invention also provides a cured film formed using the negative-type photosensitive resin composition, a partition, an organic EL element comprising a plurality of dots and the partition positioned between adjacent dots on a substrate surface, a quantum dot display, a TFT array, and a thin-film solar cell.
(FR) La présente invention porte sur : une composition de résine photosensible de type négatif qui est destinée à un élément optique, qui présente une bonne répulsion de l'encre, et qui permet de réduire un résidu dans une ouverture; un film de résine durci qui est destiné à un élément optique et qui présente une bonne répulsion de l'encre; une partition qui est destinée à un élément optique et qui permet de former un motif hautement précis; et un élément optique comprenant la partition. La composition de résine photosensible de type négatif contient une résine soluble dans les alcalins photodurcissable ou un monomère soluble dans les alcalins, un initiateur de photopolymérisation comprenant un composé acridine, et un répulsif de l'encre. La présente invention porte également sur un film durci formé à l'aide de la composition de résine photosensible de type négatif, une partition, un élément électroluminescent (EL) organique comprenant une pluralité de points et la partition positionnée entre des points adjacents sur une surface de substrat, un dispositif d'affichage à points quantiques, un réseau de transistors en couches minces (TFT), et une cellule solaire en couche mince.
(JA) 良好な撥インク性を有するとともに開口部における残渣の低減が可能な光学素子用のネガ型感光性樹脂組成物、良好な撥インク性を有する光学素子用の樹脂硬化膜、精度の高いパターンの形成が可能な光学素子用の隔壁および、該隔壁を有する光学素子の提供。光硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂またはアルカリ可溶性単量体と、アクリジン系の化合物からなる光重合開始剤と、撥インク剤とを含有するネガ型感光性樹脂組成物、該ネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜、隔壁、および基板表面に複数のドットと隣接するドット間に位置する該隔壁とを有する有機EL素子、量子ドットディスプレイ、TFTアレイ、薄膜太陽電池。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)