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1. (WO2017033591) 荷電粒子線装置および試料ステージのアライメント調整方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2017/033591    国際出願番号:    PCT/JP2016/070204
国際公開日: 02.03.2017 国際出願日: 08.07.2016
予備審査請求日:    14.12.2016    
IPC:
H01J 37/22 (2006.01), H01J 37/20 (2006.01), H01J 37/24 (2006.01), H01J 37/28 (2006.01)
出願人: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP)
発明者: MIKAMI Keisuke; (JP).
NESAKI Toshiaki; (JP).
CHIBA Hiroyuki; (JP)
代理人: TODA Yuji; (JP)
優先権情報:
2015-163321 21.08.2015 JP
発明の名称: (EN) CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE AND SAMPLE STAGE ALIGNMENT ADJUSTMENT METHOD
(FR) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ET PROCÉDÉ DE RÉGLAGE D'ALIGNEMENT DE PLATINE D'ÉCHANTILLONS
(JA) 荷電粒子線装置および試料ステージのアライメント調整方法
要約: front page image
(EN)The objective of the present invention relates to enabling high-precision, adequately operational, and high-throughput adjustment of alignment between a sample stage and an optical image using a low magnification optical image and a high magnification optical image. The present invention relates to allowing alignment adjustment by alignment of the sample support to be performed using a first processed optical image from the enlargement, reduction or visual field modification by digital processing of an optical image of a sample support holding a sample, and allowing alignment adjustment by specification of an alignment point to be performed using a second processed optical image different from the first processed optical image. The present invention allows the alignment between the sample stage and the optical image to be adjusted based on the external shape of the sample support and the characteristic points on the sample without removing from the sample chamber the sample support holding the sample.
(FR)La présente invention porte sur la possibilité d'obtenir un réglage à haut débit, fonctionnel de manière appropriée et de haute précision de l'alignement entre une platine d'échantillons et une image optique, à l'aide d'une image optique à faible grossissement et d'une image optique à fort grossissement. La présente invention concerne la possibilité de réaliser un réglage d'alignement par alignement du porte-échantillon à l'aide d'une première image optique traitée à partir de l'agrandissement, de la réduction ou de la modification du champ visuel par traitement numérique d'une image optique d'un porte-échantillon contenant un échantillon et de réaliser un réglage d'alignement par spécification d'un point d'alignement à réaliser à l'aide d'une seconde image optique traitée différente de la première image optique traitée. La présente invention permet de régler l'alignement entre la platine d'échantillons et l'image optique sur la base de la forme externe du porte-échantillon et des points caractéristiques sur l'échantillon, sans retirer le porte-échantillon contenant l'échantillon de la chambre pour échantillon.
(JA)本発明の目的は、試料ステージと光学像のアライメントを、低倍率な光学像と高倍率な光学像を利用して、高精度に、操作性良く、高スループットで調整できることに関する。 本発明は、試料を保持した試料台の光学像をデジタル処理により拡大もしくは縮小または視野変更した第1の処理済み光学像を用いて、試料台アライメントによるアライメント調整が実施可能であり、第1の処理済み光学像とは異なる第2の処理済み光学像を用いて、アライメントポイント指定によるアライメント調整が実施可能であることに関する。 本発明によれば、試料を保持した試料台を試料室から取り出さずに、試料台の外形状と試料上の特徴点を基準として、試料ステージと光学像のアライメントを調整できる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)